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Official data from INPI

FERRAMENTA DE AGRUPAMENTO DE SISTEMA DE VÁCUO

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

102022014774

Type

Invention Patent

Filing

07/26/2022

Publication

12/20/2022

Progress at the INPI

  1. Filing07/26/22
  2. Publication12/20/22
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 11/25/2025. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

E. F. (pessoa física)

CH

Inventors

A. S. (pessoa física)

PL

C. G. (pessoa física)

CH

J. M. (pessoa física)

CH

L. P. (pessoa física)

CH

Technical data

Priority claims

EP

20 191 464.5 · 08/18/2020

Abstract

FERRAMENTA DE AGRUPAMENTO DE SISTEMA DE VÁCUO. A presente invenção refere-se a: ferramenta de agrupamento de sistema de vácuo (0), método, e uso; que compreende uma configuração de câmara dupla com pelo menos uma câmara de deposição química de vapor (1) e pelo menos uma câmara de deposição física de vapor (3), com meios de deposição química de vapor correspondentes (10, 11, 12, 13) e meios de deposição física de vapor correspondentes (30, 31, 32, 33) conectados, de modo que seja criado uma ferramenta de agrupamento de sistema de vácuo compacta, e de construção simples (1), sem transferência mecânica de amostra. O objetivo é alcançado de modo que a pelo menos uma câmara de deposição química de vapor (1) e a pelo menos uma câmara de deposição física de vapor (3) sejam divididas por uma válvula de alívio (2), mas diretamente conectadas em duas laterais para a válvula de alívio (2), onde uma etapa de preparação CVD ou ALD com válvula de alívio fechada (2) na superfície (400) e uma posterior deposição PVD após a abertura da válvula de alívio (2) podem ser realizadas, enquanto a deposição física de vapor é realizada através a câmara de deposição física de vapor (3) e concluída através a abertura da válvula de alívio (2) sobre a superfície (400) do substrato (40), o que também pode ser repetido em vários ciclos e pelo que a transferência de um substrato (40) para fora da câmara de deposição química de vapor (1) ou um movimento linear do substrato (40) não são necessários.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2848 de 05-08-2025 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

11/25/2025

RPI 2864

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 3ª anuidade.

08/05/2025

RPI 2848

Publicação do pedido de patente

#3.1

12/20/2022

RPI 2711

Pedido de patente depositado

#2.1

12/06/2022

RPI 2709

Exigência - art. 21 da LPI

#2.5

Teor da exigência disponível no parecer (pdf) - acesse: Buscaweb no Portal do INPI. Prazo para cumprimento - 30 (Trinta) dias corridos contados do 1º dia útil após essa publicação (não confunda o prazo de 30 dias, com 1 mês ou com 31 dias). Protocole a petição de cumprimento - Guia de Recolhimento da União (GRU) de código 206 (Cumprimento de exigência formal preliminar) + documentos corrigidos, de acordo com o parecer. O pedido com exigência não cumprida ou cumprida fora do prazo não será aceito e terá sua numeração anulada.

08/30/2022

RPI 2695

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870220065820' em 26/07/2022 18:43 (WB)

08/09/2022

RPI 2692

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