Abstract
FERRAMENTA DE AGRUPAMENTO DE SISTEMA DE VÁCUO. A presente invenção refere-se a: ferramenta de agrupamento de sistema de vácuo (0), método, e uso; que compreende uma configuração de câmara dupla com pelo menos uma câmara de deposição química de vapor (1) e pelo menos uma câmara de deposição física de vapor (3), com meios de deposição química de vapor correspondentes (10, 11, 12, 13) e meios de deposição física de vapor correspondentes (30, 31, 32, 33) conectados, de modo que seja criado uma ferramenta de agrupamento de sistema de vácuo compacta, e de construção simples (1), sem transferência mecânica de amostra. O objetivo é alcançado de modo que a pelo menos uma câmara de deposição química de vapor (1) e a pelo menos uma câmara de deposição física de vapor (3) sejam divididas por uma válvula de alívio (2), mas diretamente conectadas em duas laterais para a válvula de alívio (2), onde uma etapa de preparação CVD ou ALD com válvula de alívio fechada (2) na superfície (400) e uma posterior deposição PVD após a abertura da válvula de alívio (2) podem ser realizadas, enquanto a deposição física de vapor é realizada através a câmara de deposição física de vapor (3) e concluída através a abertura da válvula de alívio (2) sobre a superfície (400) do substrato (40), o que também pode ser repetido em vários ciclos e pelo que a transferência de um substrato (40) para fora da câmara de deposição química de vapor (1) ou um movimento linear do substrato (40) não são necessários.