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MÉTODO DE PRODUÇÃO DE COMPÓSITOS ADSORVENTES BASEADOS EM SÍLICA E QUITOSANA E APLICAÇÃO DOS MESMOS

ArquivadaInvention Patent

Application data

Invention Patent MÉTODO DE PRODUÇÃO DE COMPÓSITOS ADSORVENTES BASEADOS EM SÍLICA E QUITOSANA E APLICAÇÃO DOS MESMOS de FUNDAÇÃO UNIVERSIDADE DE PASSO FUNDO — IPC B01J 20/24
Invention Patent MÉTODO DE PRODUÇÃO DE COMPÓSITOS ADSORVENTES BASEADOS EM SÍLICA E QUITOSANA E APLICAÇÃO DOS MESMOS de FUNDAÇÃO UNIVERSIDADE DE PASSO FUNDO — IPC B01J 20/24. Drawing published by the INPI in the Industrial Property Gazette.

Number

102021003029

Type

Invention Patent

Filing

02/18/2021

Publication

08/30/2022

Progress at the INPI

  1. Filing02/18/21
  2. Publication08/30/22
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 02/18/2021 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 11/12/2024. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

FUNDAÇÃO UNIVERSIDADE DE PASSO FUNDO

RS, BR

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Inventors

J. P. (pessoa física)

BR

J. M. (pessoa física)

BR

T. M. (pessoa física)

BR

Technical data

Abstract

MÉTODO DE PRODUÇÃO DE COMPÓSITOS ADSORVENTES BASEADOS EM SÍLICA E QUITOSANA E APLICAÇÃO DOS MESMOS. Esta patente refere-se ao campo técnico da síntese de compósitos adsorventes, especificamente compósitos a base de sílica e quitosana, e revela método de produção de compósitos compreendendo altos teores de sílica com elevadas áreas superficiais e resistências química e mecânica. Além disso, é também objeto de interesse a aplicação dos adsorventes produzidos na remoção de contaminantes em águas. O método envolve a pré-hidrólise do TEOS e dissolução da quitosana em ácido acético 2%, seguido da mistura de ambos os componentes para término da hidrólise, onde as concentrações das soluções de quitosana e TEOS são definidas de modo que se obtenham relações mássicas na proporção 1:1 até 3:1 de sílica (SiO2) para quitosana, respectivamente. A etapa de policondensação dos compósitos ocorre mediante a atomização da mistura de TEOS e quitosana sobre uma solução de hidróxido de amônio, ocorrendo então a reação súbita de policondensação dos componentes na superfície da solução de hidróxido de amônio e evitando a precipitação dos componentes em pH básico e separação de fases.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

O pedido de exame para esse pedido, de acordo com o art. 33 da LPI, possuía prazo para ser requerido até 19/02/2024. Na RPI 2773 de 27/02/2024 foi publicado o despacho 11.1 de arquivamento de acordo com o art. 33 da LPI. O pagamento da solicitação de desarquivamento e do pedido de exame, de acordo com o parágrafo único do art. 33 da LPI, art. 4º da Portaria INPI/PR n° 302 de 12/08/2020 e caput do despacho 11.1 publicado na RPI, possuía prazo para ser requerida até 29/04/2024. Observa-se que a Portaria INPI/PR nº 19, de 06 de maio de 2024, devolveu o prazo até 01/11/2024 para o requerente e/ou representante legal residente no Rio Grande do Sul e que possuía prazo para efetuar algum ato no INPI entre 24/04/2024 a 28/10/2024. Não houve manifestação referente ao pedido de exame e pedido de desarquivamento até o prazo estendido. Dessa forma considera-se o pedido de exame inexistente, sendo que o cumprimento da exigência estipulada no caput da publicação do despacho 11.1 na RPI não foi atendido. Observa-se que não constam esclarecimentos ou pedidos de devolução de prazo apresentados até o momento.

11/12/2024

RPI 2810

11.14

Anulada a publicação código 11.1.1 na RPI nº 2794 de 23/07/2024 por ter sido indevida.

08/06/2024

RPI 2796

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

07/23/2024

RPI 2794

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

02/27/2024

RPI 2773

Publicação do pedido de patente

#3.1

08/30/2022

RPI 2695

Pedido de patente depositado

#2.1

05/11/2021

RPI 2627

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870210016228' em 18/02/2021 17:34 (WB)

03/02/2021

RPI 2617

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