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Official data from INPI

PROCESSO DE PRODUÇÃO DE NANOPLACAS DE TIO2 ANATASE COM FACES {001} EXPOSTAS LIVRE DE FLÚOR

ConcedidaInvention Patent

Application data

Number

102020001941

Type

Invention Patent

Filing

01/29/2020

Publication

08/10/2021

Progress at the INPI

  1. Filing01/29/20
  2. Publication08/10/21
  3. Examination
  4. Allowance06/02/26
  5. Grant06/23/26
  6. In force01/29/40

The patent was granted on 06/23/2026 and is in force until 01/29/2040. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.

Protection valid until:01/29/2040

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Latest action published by the INPI: 06/23/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

INSTITUTO DE TECNOLOGIA E PESQUISA

SE, BR

U. T. (pessoa física)

SE, BR

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Inventors

A. M. (pessoa física)

BR

L. F. (pessoa física)

BR

R. F. (pessoa física)

BR

Technical data

Abstract

PROCESSO DE PRODUÇÃO DE NANOPLACAS DE TIO2 ANATASE COM FACES {001} EXPOSTAS LIVRE DE FLÚOR. A presente patente de invenção refere-se a um processo para fabricação de TiO2 anatase com faces {001} expostas, em especial cristais em forma de nanoplacas. Mais especificamente, a presente invenção se refere a um processo para produção de nanoplacas de TiO2 anatase com faces {001} expostas e alta área superficial, sem a presença de substâncias derivadas de flúor. O dito processo melhora a sua eficiência, eliminando o risco à saúde e reduzindo o impacto ambiental decorrente do processo de fabricação em relação aos processos similares existentes, e, diante disso possui aplicação direta nas áreas de produção de células solares sensibilizadas por corantes, degradação fotocatalítica de poluentes orgânicos, produção de hidrogênio, sensores de gás, baterias de íons de lítio, produção de bloqueadores solar e outros campos relacionados com saúde, cosmética, meio ambiente e energia.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 29/01/2020, observadas as condições legais

06/23/2026

RPI 2894

Deferimento

#9.1

06/02/2026

RPI 2891

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

04/07/2026

RPI 2883

Publicação do pedido de patente

#3.1

08/10/2021

RPI 2640

Pedido de patente depositado

#2.1

05/26/2020

RPI 2577

Exigência - art. 21 da LPI

#2.5

05/12/2020

RPI 2575

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870200013973' em 29/01/2020 16:08 (WB)

02/11/2020

RPI 2562

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