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Official data from INPI

SISTEMA DE REGENERAÇÃO DE DESSECANTE LÍQUIDO ELETROQUÍMICO

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Invention Patent SISTEMA DE REGENERAÇÃO DE DESSECANTE LÍQUIDO ELETROQUÍMICO — IPC B01D 61/42
Invention Patent SISTEMA DE REGENERAÇÃO DE DESSECANTE LÍQUIDO ELETROQUÍMICO — IPC B01D 61/42. Drawing published by the INPI in the Industrial Property Gazette.

Number

102019002402

Type

Invention Patent

Filing

02/06/2019

Publication

02/18/2020

Progress at the INPI

  1. Filing02/06/19
  2. Publication02/18/20
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 03/18/2025. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

P. I. (pessoa física)

US

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Inventors

E. K. (pessoa física)

US

E. B. (pessoa física)

US

J. R. (pessoa física)

US

M. B. (pessoa física)

US

Technical data

Priority claims

US

16/200,309 · 11/26/2018

US

62/627,449 · 02/07/2018

US

62/628,573 · 02/09/2018

Abstract

SISTEMA DE REGENERAÇÃO DE DESSECANTE LÍQUIDO ELETROQUÍMICO. Trata-se de um sistema de regeneração de dessecante líquido que compreende um aparelho de eletrodiálise que tem um primeiro e um segundo reservatórios, em que a concentração de uma solução de entrada no primeiro reservatório aumenta para uma concentração limite, e a concentração da solução de entrada diminui no segundo reservatório durante um modo de operação. Uma primeira câmara eletrolítica redox ativa compreende um primeiro eletrodo e uma primeira solução de um material eletrolítico redox ativo e tem uma reação redox reversível com o primeiro material eletrolítico para conduzir um íon para o primeiro reservatório. Uma segunda câmara eletrolítica redox ativa compreende um segundo eletrodo e uma segunda solução de um material eletrolítico redox ativo e tem uma reação redox reversível com o segundo material eletrolítico para aceitar um íon do segundo reservatório. Um primeiro tipo de membrana é disposto entre o primeiro e o segundo reservatórios, e um segundo tipo de membrana, diferente do primeiro, é disposto entre as respectivas câmaras e reservatórios de eletrodos.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2813 de 03-12-2024 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

03/18/2025

RPI 2828

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 6ª anuidade.

12/03/2024

RPI 2813

Retificação de publicação

#3.8

Referente à RPI 2563 de 18/02/2020, quanto ao item (30).

04/18/2023

RPI 2728

Parecer de pré-exame

#6.23

12/06/2022

RPI 2709

Publicação do pedido de patente

#3.1

02/18/2020

RPI 2563

Pedido de patente depositado

#2.1

12/17/2019

RPI 2554

Exigência - art. 21 da LPI

#2.5

02/26/2019

RPI 2512

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870190012348' em 06/02/2019 14:24 (WB)

02/12/2019

RPI 2510

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