Application data
Number
102018002779Type
Filing
Publication
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 03/22/2022. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
HITACHI, LTD.
JP
Inventors
K. K. (pessoa física)
JP
Y. N. (pessoa física)
JP
IPC Classification
Priority claims
JP
2017-026401 · 02/15/2017
Abstract
Um aparelho para tratamento por osmose reversa inclui: uma primeira unidade incluindo uma pluralidade de módulos de membrana de osmose reversa arranjados em paralelo que realizam um tratamento primário em água a ser tratada; e uma pluralidade de segundas unidades que incluem, cada uma, um ou mais módulos de membrana de osmose reversa arranjados em paralelo que realizam um tratamento subsequente em água concentrada separada na primeira unidade. Cada uma das segundas unidades inclui um tubo de fornecimento de água concentrada, um tubo de descarte de água concentrada, uma válvula de tubo de fornecimento, e uma válvula de tubo de descarte. Um método para tratamento por osmose reversa inclui, após realizar os tratamentos subsequentes através de duas ou mais segundas unidades, trocar a segunda unidade que realiza o tratamento subsequente na última etapa.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2656 de 30-11-2021 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
03/22/2022
RPI 2672
#8.6
Referente à 4ª anuidade.
11/30/2021
RPI 2656
#3.1
10/30/2018
RPI 2495
#2.1
07/17/2018
RPI 2480
#2.10
Número de Protocolo '870180011314' em 09/02/2018 11:24 (WB)
02/20/2018
RPI 2459
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