Invention Patent MÉTODO DE FORMAÇÃO DE PELÍCULA DE NÍQUEL E SOLUÇÃO COMPREENDENDO ÍONS DE NÍQUEL E ÍONS DE CLORETO USADA PARA O MÉTODO — IPC C25D 3/12. Drawing published by the INPI in the Industrial Property Gazette.
The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
A presente invenção refere-se a uma película de níquel (F) que é formada na superfície de um substrato metálico (B) com uma membrana sólida de eletrólito (13) em contato com um substrato metálico (B) enquanto suprime a corrosão que ocorre no substrato metálico (B) por um método de formar uma película de níquel (F) que compreende: dispor um ânodo (11), um substrato metálico (B) que funciona como um cátodo e uma membrana sólida de eletrólito (13) que compreende uma solução (L) que contém íons de níquel e íons de cloreto, de modo que a membrana sólida de eletrólito (13) seja disposta entre o ânodo (11) e o substrato metálico (B) e em contato com a superfície de substrato metálico (Ba); e aplicar uma tensão entre o ânodo (11) e o substrato metálico (B), de modo a formar uma película de níquel (F) na superfície de substrato metálico (Ba) que esteja em contato com a membrana sólida de eletrólito (13), em que a concentração dos íons de cloreto é de 0,002 a 0,1 mol/l.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
09/27/2022
RPI 2699
Parecer de pré-exame
#6.23
06/21/2022
RPI 2685
Publicação do pedido de patente
#3.1
10/30/2018
RPI 2495
Pedido de patente depositado
#2.1
07/24/2018
RPI 2481
Requerimento de pedido de patente
#2.10
Número de Protocolo '870180006855' em 26/01/2018 08:32 (WB)
