Invention Patent FONTE BIPOLAR PULSADA EM ALTA FREQUÊNCIA PARA GERAÇÃO DE PLASMA de SCHOLTZ E FONTANA CONSULTORIA LTDA - ME — IPC H05H 1/46. Drawing published by the INPI in the Industrial Property Gazette.
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 05/31/2017 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Fonte bipolar pulsada assimétrica, que tem com principal aplicação a geração do estado físico de plasma, construída pelo agrupamento de N módulos de potência unitários agrupados em cascata para formar braços de potência com (N+1) níveis, podendo atingir até dezenas de kV, conectados numa configuração ponte H, com defasamento TD ajustável entre cada bloco de modo a formar um defasamento total N.TD que possibilita obter pulsos de curta duração da ordem de nanosegundos. A configuração dos pulsos de tensão, envolvendo a intensidade, sequência, agrupamento, polaridade, frequência e largura de cada pulso podem ser ajustadas em tempo real.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
12/01/2020
RPI 2604
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
09/15/2020
RPI 2593
Publicação do pedido de patente
#3.1
12/18/2018
RPI 2502
Pedido de patente depositado
#2.1
09/19/2017
RPI 2437
Exigência - art. 21 da LPI
#2.5
08/29/2017
RPI 2434
Requerimento de pedido de patente
#2.10
Número de Protocolo '870170036817' em 31/05/2017 20:06 (WB)
