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Official data from INPI

MÉTODO DE DENSIFICAÇÃO DE PLASMA

ExtintaInvention Patent

Application data

Invention Patent MÉTODO DE DENSIFICAÇÃO DE PLASMA de SCHOLTZ E FONTANA CONSULTORIA LTDA - ME — IPC H05H 1/02
Invention Patent MÉTODO DE DENSIFICAÇÃO DE PLASMA de SCHOLTZ E FONTANA CONSULTORIA LTDA - ME — IPC H05H 1/02. Drawing published by the INPI in the Industrial Property Gazette.

Number

102016006786

Type

Invention Patent

Filing

03/28/2016

Publication

10/03/2017

Progress at the INPI

  1. Filing03/28/16
  2. Publication10/03/17
  3. Examination
  4. Allowance01/03/23
  5. Grant04/18/23
  6. Terminated07/29/25

The patent was granted on 04/18/2023 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 07/29/2025. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

SCHOLTZ E FONTANA CONSULTORIA LTDA - ME

SC, BR

Inventors

J. S. (pessoa física)

BR

L. F. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

RESUMOMÉTODO DE DENSIFICAÇÃO DE PLASMA O plasma é formado entre eletrodos a serem energizados a partir de uma fonte de energia elétrica e contém uma massa parcialmente ionizada tendo uma região de luminescência incluindo átomos neutros (AN), elétrons primários (EP), elétrons secundários (ES), e íons. O método compreende as etapas intercaladas de: acelerar os elétrons primários (EP) em direção a um dos ditos eletrodos (10) polarizado por um pulso curto, positivo, de alta voltagem, fazendo impactar elétrons primários (EP) contra o dito eletrodo (10) e deste ejetando elétrons secundários (ES); subsequentemente, acelerar os elétrons secundários (ES) em direção à região de luminescência, pela polarização do dito eletrodo (10) por um pulso de polarização negativa e de menor voltagem, colidindo os elétrons secundários com átomos neutros (AN) e produzindo íons positivos (IP) e elétrons derivados (ED); o pulso negativo deve ter um período suficiente para que os íons positivos (IP) da região luminescente possam ser acelerados na direção do eletrodo 10, de modo a atiningir a superfície do referido eletrodo; repetir as referidas etapas de modo a se obter um plasma em regime estacionário com desejado grau de ionização. O controle da intensidade e do período dos pulsos positivos e negativos permite controlar o grau de ionização do plasma e o volume da região luminescente.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2832 de 15-04-2025 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

07/29/2025

RPI 2847

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Extinta a patente, nos termos do artigo 86, da LPI, e artigo 14 da portaria 52/2023, referente ao não recolhimento da 8ª retribuição anual (Vide parecer).

04/15/2025

RPI 2832

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 28/03/2016, observadas as condições legais

04/18/2023

RPI 2728

Deferimento

#9.1

01/03/2023

RPI 2713

Exigência preliminar

#6.21

08/23/2022

RPI 2694

8.7

06/15/2021

RPI 2632

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 5ª anuidade.

04/06/2021

RPI 2622

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

03/12/2019

RPI 2514

Publicação do pedido de patente

#3.1

10/03/2017

RPI 2439

Pedido de patente depositado

#2.1

06/21/2016

RPI 2372

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 860160068491 em 28/03/2016 03:53(WB).

04/05/2016

RPI 2361

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