Indeferimento
#9.2
04/04/2023
RPI 2726
Application data
Number
102016029319Type
Filing
Publication
The application was refused by the INPI on 04/04/2023. The invention was never patented.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 04/04/2023. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
INSTITUTO FEDERAL DE EDUCAÇÃO CIÊNCIA E TECNOLOGIA DO ESPIRITO SANTO
ES, BR
Inventors
L. G. (pessoa física)
BR
IPC Classification
Abstract
O processo de deposição de materiais a plasma em GAIOLA CATÓDICA TUBULAR, utilizando uma fonte de tensão CC ou pulsada, cujas peças a serem revestidas são mantidas em potencial flutuante em uma câmara de vácuo, envolvidas por uma gaiola tubular, onde é aplicada uma diferença de potencial, onde o calor necessário ao processo é fornecido pela radiação proveniente da gaiola e principalmente dos tubos por efeito de catoto oco e os gases utilizados são forçados a passar na região dos tubos da gaiola, conduzindo as espécies do plasma até a superfície das peças.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#9.2
04/04/2023
RPI 2726
#6.1
12/06/2022
RPI 2709
#3.1
06/26/2018
RPI 2477
#2.1
04/04/2017
RPI 2413
#2.10
Número de Protocolo '870160075361' em 14/12/2016 14:20 (WB)
01/24/2017
RPI 2403
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