Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao arquivamento publicado na RPI 2501 de 11/12/2018.
04/02/2019
RPI 2517
Application data
Number
102015030023Type
Filing
Publication
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 04/02/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
P. L. (pessoa física)
DF, BR
Inventors
P. L. (pessoa física)
BR
IPC Classification
Abstract
PROCESSO E APARATO PARA INJEÇÃO BIFÁSICA DE GÁS E ÁGUA EM RESERVATÓRIOS DE PETRÓLEO. A presente invenção compreende um aparato e processo para injetar gás e água em reservatórios a partir de um escoamento bifásico em uma tubulação descendente. Na invenção, uma fase gasosa com dióxido de carbono e hidrocarbonetos é misturada com água, na qual o dióxido de carbono é total ou parcialmente dissolvido. A água carbonatada e os gases não dissolvidosseguem para uma tubulação descendente que liga a unidade de processamento até o reservatório. Nessa tubulação, a pressão vai aumentando e o dióxido de carbono e outros gases vão sendo dissolvidos na água até as substâncias chegarem ao reservatório.Com isso, é dispensado o uso de caros compressores com altíssimas pressões de descarga para permitir a injeção de gases no reservatório.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao arquivamento publicado na RPI 2501 de 11/12/2018.
04/02/2019
RPI 2517
#8.6
Referente à 3ª anuidade.
12/11/2018
RPI 2501
#3.1
06/06/2017
RPI 2422
#2.1
12/06/2016
RPI 2396
#2.5
09/27/2016
RPI 2386
#2.10
Número de Protocolo 012150000337 em 30/11/2015 04:27(DF).
08/09/2016
RPI 2379
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