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Official data from INPI

DEPOSIÇÃO DE VAPOR DE REVESTIMENTO DE IMERSÃO DE PLASMA DE ARCO DE BAIXA PRESSÃO E TRATAMENTO DE ÍONS.

ArquivadaInvention Patent

Application data

Invention Patent DEPOSIÇÃO DE VAPOR DE REVESTIMENTO DE IMERSÃO DE PLASMA DE ARCO DE BAIXA PRESSÃO E TRATAMENTO DE ÍONS. de VAPOR TECHNOLOGIES INC. — IPC C23C 14/35
Invention Patent DEPOSIÇÃO DE VAPOR DE REVESTIMENTO DE IMERSÃO DE PLASMA DE ARCO DE BAIXA PRESSÃO E TRATAMENTO DE ÍONS. de VAPOR TECHNOLOGIES INC. — IPC C23C 14/35. Drawing published by the INPI in the Industrial Property Gazette.

Number

102014006170

Type

Invention Patent

Filing

03/14/2014

Publication

11/28/2017

Progress at the INPI

  1. Filing03/14/14
  2. Publication11/28/17
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 03/14/2014 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 04/03/2018. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

VAPOR TECHNOLOGIES INC.

US

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Inventors

D. H. (pessoa física)

US

E. T. (pessoa física)

US

V. G. (pessoa física)

US

W. G. (pessoa física)

US

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

13/840,305 · 03/15/2013

Abstract

DEPOSIÇÃO DE VAPOR DE REVESTIMENTO DE IMERSÃO DE PLASMA DE ARCO DE BAIXA PRESSÃO E TRATAMENTO DE ÍONS Um sistema de revestimento inclui uma câmara de vácuo e um conjunto de revestimento. O conjunto de revestimento inclui uma fonte de vapor, um suporte de substrato, um ânodo remoto acoplado eletricamente ao alvo de cátodo, e um conjunto de câmara de cátodo. O conjunto de câmara de cátodo inclui um alvo de cátodo, um ânodo primário opcional e uma blindagem que isola o alvo de cátodo a partir da câmara de vácuo. A blindagem define uma abertura para transmissão de uma corrente de emissão de elétron de uma descarga de arco remoto a partir do alvo de , cátodo para o ânodo remoto que flui ao longo da dimensão longa face de alvo. Uma fonte de alimentação primária é conectada entre o alvo de cátodo e o ânodo primário enquanto uma fonte de alimentação secundária é conectada entre o alvo de cátodo e o ânodo remoto. Caracteristicamente, uma dimensão de ânodo remoto linear e uma dimensão curta de fonte de vapor são paralelas a uma dimensão em que o ponto de arco é dirigido ao longo do alvo de cátodo.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

04/03/2018

RPI 2465

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

01/23/2018

RPI 2455

Publicação do pedido de patente

#3.1

11/28/2017

RPI 2447

Pedido de patente depositado

#2.1

11/07/2017

RPI 2444

Exigência - art. 21 da LPI

#2.5

06/24/2014

RPI 2268

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 20140010963 em 14/03/2014 04:50(RJ).

04/15/2014

RPI 2258

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