Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
04/03/2018
RPI 2465
Application data
Number
102014006170Type
Filing
Publication
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 03/14/2014 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
VAPOR TECHNOLOGIES INC.
US
Inventors
D. H. (pessoa física)
US
E. T. (pessoa física)
US
V. G. (pessoa física)
US
W. G. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
13/840,305 · 03/15/2013
Abstract
DEPOSIÇÃO DE VAPOR DE REVESTIMENTO DE IMERSÃO DE PLASMA DE ARCO DE BAIXA PRESSÃO E TRATAMENTO DE ÍONS Um sistema de revestimento inclui uma câmara de vácuo e um conjunto de revestimento. O conjunto de revestimento inclui uma fonte de vapor, um suporte de substrato, um ânodo remoto acoplado eletricamente ao alvo de cátodo, e um conjunto de câmara de cátodo. O conjunto de câmara de cátodo inclui um alvo de cátodo, um ânodo primário opcional e uma blindagem que isola o alvo de cátodo a partir da câmara de vácuo. A blindagem define uma abertura para transmissão de uma corrente de emissão de elétron de uma descarga de arco remoto a partir do alvo de , cátodo para o ânodo remoto que flui ao longo da dimensão longa face de alvo. Uma fonte de alimentação primária é conectada entre o alvo de cátodo e o ânodo primário enquanto uma fonte de alimentação secundária é conectada entre o alvo de cátodo e o ânodo remoto. Caracteristicamente, uma dimensão de ânodo remoto linear e uma dimensão curta de fonte de vapor são paralelas a uma dimensão em que o ponto de arco é dirigido ao longo do alvo de cátodo.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1.1
04/03/2018
RPI 2465
#11.1
01/23/2018
RPI 2455
#3.1
11/28/2017
RPI 2447
#2.1
11/07/2017
RPI 2444
#2.5
06/24/2014
RPI 2268
#2.10
Número de Protocolo 20140010963 em 14/03/2014 04:50(RJ).
04/15/2014
RPI 2258
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