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Official data from INPI

DISPOSITIVO DE CARBONETO DE SILÍCIO E MÉTODO

ArquivadaInvention Patent

Application data

Number

102013026784

Type

Invention Patent

Filing

10/17/2013

Publication

09/16/2014

Progress at the INPI

  1. Filing10/17/13
  2. Publication09/16/14
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 09/01/2020. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

GENERAL ELECTRIC COMPANY

US

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Inventors

R. G. (pessoa física)

US

Z. S. (pessoa física)

US

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

13/718,031 · 12/18/2012

Abstract

DISPOSITIVO DE CARBONETO DE SILÍCIO E MÉTODO E apresentado um dispositivo de carboneto de sílicio que inclui um eletrodo de porta disposto sobre uma porção de um substrato de carboneto de silício assim como um filme dielétrico disposto sobre o eletrodo de porta. O dispositivo tem uma região de contato disposta próxima ao eletrodo de porta e tem uma camada disposta sobre o filme dielétrico e sobre a região de contato. A camada inclui níquel em porções dispostas sobre o filme dielétrico e inclui slicieto de níquel em porções dispostas sobre a região de contato. A camada de silicieto de níquel é configurada para fornecer um contato ôhmico a região de contato do dispositivo de carboneto de silício.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

09/01/2020

RPI 2591

Exigência preliminar

#6.21

03/03/2020

RPI 2565

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

11/21/2018

RPI 2498

Publicação do pedido de patente

#3.1

09/16/2014

RPI 2280

Pedido de patente depositado

#2.1

06/10/2014

RPI 2266

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 18130034821 em 17/10/2013 03:45(SP).

05/13/2014

RPI 2262

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