27.03.2001
RPI 1577
Publicação do pedido arquivado definitivamente
3.6
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ErfindungspatentPI9803946
COMPOSIÇÃO PARA REVESTIMENTO SENSÍVEL A RADIAÇÃO ÚTIL PARA PLACAS DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA E SIMILARES
IBF Industria Brasileira de Filmes S/A.
Em AnáliseIPC C08K 5/18
Stand beim INPI
- Eingestellt
Pedido arquivado pelo INPI. O processo foi encerrado sem chegar a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Mit einem Fachmann sprechenLetzte vom INPI veröffentlichte Handlung: 27.03.2001. Wir aktualisieren mit jeder neuen, wöchentlich erscheinenden RPI.
Technische Daten
Zusammenfassung
Patente de Invenção: "COMPOSIÇÃO PARA REVESTIMENTO SENSÍVEL A RADIAÇÃO ÚTIL PARA PLACAS DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA E SIMILARES" . Trata-se de uma composição, que é primariamente sensível a energia na região do infravermelho próximo e do infravermelho e que compreende sistema duplo de polímero, um material absorvente infravermelho que absorve no comprimento de onda desejado, um composto gerador de ácido e um composto estabilizador de ácido. A composição pode ser aplicada ao substrato apropriado é útil para prover placas de impressão litográfica em offset, filme para prova de cor ou imagem resist.
IPC-Klassifikation
Verfahrensgeschichte
Veröffentlichungen im Brasilianischen Amtsblatt für gewerblichen Rechtsschutz (RPI).
01.08.2000
RPI 1543
Arquivamento - Art. 17 §2° da LPI
11.11
Prioridade interna do PI 9901906-0
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