PRODUTO SENSÍVEL À RADIAÇÃO, E PROCESSO DE IMPRESSÃO OU REVELAÇÃO DE IMAGEM UTILIZANDO O REFERIDO PRODUTO.

Zusammenfassung

"COMPOSIÇÃO PARA REVESTIMENTO E MÉTODO DE PREPARO DE CHAPA SENSÍVEL À RADIAÇÃO, UTILIZÁVEL EM IMPRESSÃO LITOGRÁFICA E SIMILARES". A invenção refere-se a uma composição bem como produto de revestimento, que é primariamente sensível à energia na região do infravermelho próximo e do infravermelho, compreendendo duas camadas sendo que a primeira contém um polímero aglutinante e um, ou mais de um, material absorvente infravermelho que absorve no comprimento de onda desejado e uma segunda camada superposta à primeira contendo um polímero capaz de revestir e tomar o polímero da primeira camada insolúvel no revelador convencional de chapas positivas, e que quando aplicado ao substrato apropriado é útil como uma chapa de impressão litográfica em offset, filme para prova de cor ou imagem resist. A invenção trata ainda de processo de impressão e revelação de imagem.

IPC-Klassifikation