23.19
Patente extinta em 18/03/2012
03/04/2012
RPI 2152
Depositantes
A. M. (pessoa física)
JP
Takeda Chemical Industries, Ltd
JP
Y. K. (pessoa física)
JP
Y. A. (pessoa física)
JP
Inventores
A. M. (pessoa física)
JP
Y. K. (pessoa física)
JP
Y. A. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
061780-1992 · 18/03/1992
Resumo técnico
Patente de Invenção "COMPOSTO, COMPOSIÇÃO ANTIASMÁTICA, COMPOSIÇÃO ANTI-ALÉRGICA, E, PROCESSO PARA PRODUZIR UM COMPOSTO". Composto representado pela fórmula: onde R^ 1^ representa H, um grupo alquila inferior opcionalmente substituído ou um halogênio: R^ 2^ e R^ 3^ representam, respectivamente, um hidrogênio ou um grupo alquila inferior opcionalmente substituído, ou R^ 2^ e R^ 3^ podem, combinados com o grupo adjacente -C=C, formar anéis de 5 a 7 membros; X representa 0, SO ou SO~ 2~; Y representa um grupo da fórmula: (R^ 4^ e R^ 5^ representam, respectivamente, h ou um grupo alquila inferior opcionalmente substituído) ou um grupo divalente derivado de um anel homocíclico ou heterocíclico de 3 a 7 membros opcionalmente substituído; R^ 7^ e R^ 7^, cada um, representam H, um grupo alquila inferior opcionalmente subsituído, um grupo cicloalquila opcionalmente substituído, ou um grupo arila opcionalmente substituído, ou R^ 7^ e R^ 7^ podem, combinado com o N adjacente, formar um grupo heterocíclico que contenha N opcionalmente substituído; m representa de 0 a 4; n representa de 0 a 4 ou um sal dos mesmos, sua produção, intermediários e composições. (Efeito) Estes compostos têm excelentes ativiadades de anti-PAF, anti-alérgicas e representam grande valor como agente antiasmático.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Patente extinta em 18/03/2012
03/04/2012
RPI 2152
Renumerado o pedido de PI1100711-7 para PP1100711-7.
09/11/2010
RPI 2079
Referência: RPI 1512 de 28/12/1999ítem do despacho (primeiro depósito no exterior)
30/05/2000
RPI 1534
28/12/1999
RPI 1512
24/08/1999
RPI 1494
05/05/1998
RPI 1428
#23.1
09/09/1997
RPI 1397
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