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Dado oficial do INPI

APLICADOR DE REVESTIMENTO LÍQUIDO TENDO MEIOS PARA APLICAÇÃO ESPAÇADA

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI9917238

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

16/08/1999

Publicação

22/01/2002

Andamento no INPI

  1. Depósito16/08/99
  2. Publicação22/01/02
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 06/12/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Newell Operating Company

US

Inventores

B. W. (pessoa física)

US

K. S. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

09/134.797 · 14/08/1998

Resumo técnico

"APLICADOR DE REVESTIMENTO LÍQUIDO TENDO MEIOS PARA APLICAÇÃO ESPAÇADA". Um aplicador de revestimento líquido para uso com diversas bacias adjacentes separadas por uma divisão inclui um suporte que possui uma porção de cabo, um primeiro meio de aplicação de líquido acoplado ao suporte e tendo uma primeira superfície de aplicação que se estende em um plano e um segundo meio de aplicação de líquido acoplado ao suporte e tendo uma segunda superfície de aplicação que se estende no plano. Os primeiro e segundo meios de aplicação de líquido são separados entre si de modo a formar uma fenda entre os mesmos. A fenda é configurada para receber a divisão de tal modo que as primeira e segunda superfícies de aplicação dos primeiro e segundo meios possam ser simultaneamente recebidas nas primeira e segunda bacias para carregar os primeiro e segundo meios com revestimentos líquidos, diferentes.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1849 de 13/06/2006.

06/12/2011

RPI 2135

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente a 5ª,6ª e 7ª anuidades.

13/06/2006

RPI 1849

Publicação do pedido de patente

#3.1

22/01/2002

RPI 1620

Pedido de patente depositado

#2.1

11/12/2001

RPI 1614

Monitoramento de patentes

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