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Dado oficial do INPI

PROCESSO PARA CONTROLAR A TEMPERATURA DE UMA MASSA FUNDIDA DE SILÍCIO EM UM FORNO.

ExtintaPatente de InvençãoPCT · US1999002254

Dados do pedido

Número

PI9917029

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

02/02/1999

Publicação

15/01/2002

PCT

US1999002254

Andamento no INPI

  1. Depósito02/02/99
  2. Publicação15/01/02
  3. Exame
  4. Deferimento11/03/08
  5. Concessão25/02/09
  6. Extinto13/04/21

Patente concedida em 25/02/2009 e depois extinta em 13/04/2021. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 13/04/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

E. C. (pessoa física)

JP

Ebara Solar, INC.

US

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

B. M. (pessoa física)

US

J. E. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

"PROCESSO PARA CONTROLAR A TEMPERATURA DE UMA MASSA FUNDIDA DE SILÍCIO EM UM FORNO". Um processo e sistema para controlar a espessura de um par de dendritos em um processo de crescimento de membranas de silício dendríticas, para melhorar a produção de membranas de silício dendríticas. Uma imagem de cada dendrito em uma membrana emergindo de uma massa fundida de silício em um forno de fundição é produzida por um par de câmaras focalizadas sobre o par de dendritos. As imagens dos dendritos são digitalizadas, a espessura média dos dendritos é calculada e comparada com os parâmetros do ponto de ajuste. A diferença média entre as espessuras dos dendritos e os parâmetros do ponto de ajuste, é usada para controlar a temperatura total do forno de fundição, enquanto as diferenças entre a espessura de cada par são usadas para controlar a distribuição de temperatura lateral no forno, de modo a manter a espessura dos dendritos dentro de limites predeterminados. O processo pode ser usado em uma configuração de laço fechado para prover informação de realimentação visível a um operador que ajuste manualmente as condições de temperatura do forno.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2607 de 22-12-2020 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

13/04/2021

RPI 2623

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente às 11ª e 12ª anuidades.

22/12/2020

RPI 2607

24.6

Anulada a publicação código 24.8 na RPI nº 2259 de 22/04/2014 por ter sido indevida.

08/12/2020

RPI 2605

24.8

22/04/2014

RPI 2259

24.3

Referente a 11ª e 12ª anuidade(s).

27/09/2011

RPI 2125

Concessão da patente

#16.1

25/02/2009

RPI 1990

Transferência deferida

#25.1

Transferido de: Ebara Solar, Inc.

05/08/2008

RPI 1961

Publicação anulada - titular

#25.12

Anulada a Exigência publicada na RPI 1945 de 15/04/2008, referente a Petição de Transferência nº 020070145465/RJ de 16/10/2007, uma vez que foi feita com incorreção.

22/07/2008

RPI 1959

Transferência em exigência

#25.3

A fim de atender o solicitado na Petição de Transferência nº 020070145465/RJ de 16/10/2007, queira fazer constar no documento de cessão a assinatura da cessionária e de duas testemunhas, devidamente notarizadas e legalizadas.

15/04/2008

RPI 1945

Deferimento

#9.1

11/03/2008

RPI 1940

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

09/10/2007

RPI 1918

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

15/01/2002

RPI 1619

Monitoramento de patentes

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