Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
20/07/2004
RPI 1750
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Dado oficial do INPI
FORMAS E CAMADAS NANO ESTRUTURADAS E MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DAS MESMAS COM A UTILIZAÇÃO DE PRECURSORES ESTÁVEIS SOLÚVEIS EM ÁGUA
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · EP1999002396
Dados do pedido
Número
PI9909521Tipo
Patente de Invenção
Depósito
08/04/1999
Publicação
12/12/2000
PCT
EP1999002396 Andamento no INPI
- Depósito08/04/99
- Publicação12/12/00
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 08/04/1999, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 20/07/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Institut Fuer Neue Materialien Gemeinnuetzige GMBH
DE
Inventores
E. A. (pessoa física)
TR
G. J. (pessoa física)
DE
H. S. (pessoa física)
DE
H. S. (pessoa física)
DE
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
198 16 136.0 · 09/04/1998
Resumo técnico
Patente de Invenção: "FORMAS E CAMADAS NANO ESTRUTURADAS E MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DAS MESMAS COM A UTILIZAÇÃO DE PRECURSORES ESTÁVEIS SOLÚVEIS EM ÁGUA" . Um processo para a preparação de uma composição para a produção de moldagens e camadas nano estruturadas compreende por em contato um sol aquoso e/ou alcoólico de um composto de um elemento selecionado a partir de sílica e metais dos grupos principais e dos grupos de transição da Tabela Periódica com espécies que possuam grupos alcóxi hidrolizáveis e que compreendam, pelo menos um alcoxissilano ou um précondensado derivado dos mesmos, sob condições que levem a hidrólise (adicional) das espécies, e a subseqüente remoção do álcool formado e qualquer álcool já presente originalmente. O processo é caracterizado pelo fato de que, o álcool é removido em uma tal quantidade que o teor de álcool residual da composição não é de mais do que 20% em peso.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
02/12/2003
RPI 1717
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
12/12/2000
RPI 1562
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