(11) 98705-3426
TrademarkIQ íconeTrademarkIQ
Voltar para busca
Dado oficial do INPI

PROCESSO DE OBTENÇÃO DE UM SUBSTRATO, SUBSTRATO, E, DISPERSÃO EM FASE LÍQUIDA.

ExtintaPatente de InvençãoPCT · FR1999000511

Dados do pedido

Número

PI9908509

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

05/03/1999

Publicação

12/12/2000

PCT

FR1999000511

Andamento no INPI

  1. Depósito05/03/99
  2. Publicação12/12/00
  3. Exame
  4. Deferimento26/12/07
  5. Concessão22/04/08
  6. Extinto17/04/18

Patente concedida em 22/04/2008 e depois extinta em 17/04/2018. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

Falar com um especialista

Última movimentação publicada pelo INPI: 17/04/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

R. C. (pessoa física)

FR

S. F. (pessoa física)

FR

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

C. L. (pessoa física)

FR

F. M. (pessoa física)

FR

M. S. (pessoa física)

FR

T. C. (pessoa física)

FR

X. T. (pessoa física)

FR

Dados técnicos

Prioridades unionistas

FR

98/02676 · 05/03/1998

Resumo técnico

"PROCESSO DE OBTENÇÃO DE UM SUBSTRATO, SUBSTRATO, E, DISPERSÃO EM FASE LÍQUIDA". A invenção tem por objetivo um processo para a obtenção de um substrato (1) dotado de um revestimento (3) com propriedades fotocatalíticas, partículas cristalizadas (4) de um óxido de metal A com propriedade fotocatalítica que são incorporadas ao dito revestimento com a ajuda de um ligante mineral (5) que compreende pelo menos um óxido de um metal B que apresenta igualmente propriedades fotocatalíticas no estado cristalizado e opcionalmente pelo menos um óxido de um metal M desprovido de propriedades fotocatalíticas e/ou pelo menos um composto de silício do tipo óxido de silício SiO~ 2~. Deposita-se o revestimento (3) proveniente de dispersões em fase líquida que contém: por um lado as ditas partículas cristalizadas (4) de óxido do metal A, por outro lado pelo menos um composto precursor do óxido do metal B do ligante (5) e eventualmente um composto precursor do óxido do metal M e do composto de Si, em uma proporção relativa A/(B + M + Si) em peso compreendida entre 60/40 e 40/60. A invenção refere-se igualmente ao substrato assim revestido e a suas diversas aplicações.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2452 de 02-01-2018 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

17/04/2018

RPI 2467

Republicação - classificação IPC

#15.11

Procedimento automático de reclassificação. As classificações IPC anteriores eram: C03C 17/25; C03C 17/00; C03C 25/02; B01J 35/00.

27/03/2018

RPI 2464

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 19ª anuidade.

02/01/2018

RPI 2452

Concessão da patente

#16.1

22/04/2008

RPI 1946

Deferimento

#9.1

26/12/2007

RPI 1929

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

02/10/2007

RPI 1917

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

21/02/2007

RPI 1885

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

12/12/2000

RPI 1562

Relacionados

Do mesmo titular

Monitoramento de patentes

Acompanhe esta patente em tempo real.

Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.