Carta-patente expirada
#21.1
PATENTE EXTINTA EM 28.12.2019
10/03/2020
RPI 2566
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Dado oficial do INPI
PROCESSO PARA PRODUZIR UMA PREFORMA DE SÍLICA DE ALTA PUREZA ÓPTICA
Arquivada/ExtintaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI9905998Tipo
Patente de Invenção
Depósito
28/12/1999
Publicação
20/03/2001
Andamento no INPI
- Depósito28/12/99
- Publicação20/03/01
- Exame
- Deferimento19/09/06
- Concessão19/12/06
- Expirado10/03/20
Carta-patente expirada em 10/03/2020: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 10/03/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Pirelli Cavi e Sistemi S.p.A.
IT
Pirelli & C. S.p.A.
IT
Pirelli S.p.A.
IT
Prysmian Cavi e Sistemi Energia S.r.l.
IT
Inventores
G. R. (pessoa física)
IT
M. A. (pessoa física)
IT
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
EP
98830786.4 · 28/12/1998
Resumo técnico
"PROCESSO PARA PRODUZIR UMA PREFORMA DE SÍLICA DE ALTA PUREZA ÓPTICA" Processo para produzir uma preforma de sílica de alta pureza óptica, que compreende (a) vaporização de um composto de organosilício; b) decomposição térmica do referido composto de organosilício no estado de vapor, para produzir partículas de sílica amorfa fundida; (c) deposição das referidas partículas de sílica amorfa fundida sobre um suporte; onde o referido composto de organosilício possui a fórmula (I) em que R~ 1~, R~ 2~, R~ 3~, e R~ 4~ possuem significados apresentados no texto
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Transferência deferida
#25.1
Transferido de: Pirelli & C. S.p.A.
19/07/2011
RPI 2115
Transferência deferida
#25.1
Transferido por Incorporação de: Pirelli S.p.A.
05/07/2011
RPI 2113
Transferência deferida
#25.1
Transferido por Incorporação de: Pirelli Cavi e Sistemi S.p.A.
21/06/2011
RPI 2111
Concessão da patente
#16.1
19/12/2006
RPI 1876
Deferimento
#9.1
19/09/2006
RPI 1863
Publicação do pedido de patente
#3.1
20/03/2001
RPI 1576
Pedido de patente depositado
#2.1
28/11/2000
RPI 1560
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