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Dado oficial do INPI

PROCESSO E DISPOSITIVO PARA EXCITAÇÃO DE UMA DESCARGA ELÉTRICA DE FREQÜÊNCIA ELEVADA EM UM LASER DE GÁS

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI9902018

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

25/03/1999

Publicação

16/01/2001

Andamento no INPI

  1. Depósito25/03/99
  2. Publicação16/01/01
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 25/03/1999, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 15/03/2005. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

C. C. (pessoa física)

FR

Inventores

A. V. (pessoa física)

FR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

Patente de Invenção: "PROCESSO E DISPOSITIVO PARA A EXCITAÇÃO DE UMA DESCARGA ELÉTRICA DE FREQÜÊNCIA ELEVADA EM UM LASER DE GÁS" . A invenção refere-se ao domínio da eletrônica quântica e pode ser utilizada nos lasers de gás, tais como lasers CO~ 2~, de nitrogênio e os lasers de excímeros. O processo para a excitação de descarga de alta freqüência em um laser de gás consiste em levar, além da corrente de base de mistura gasosa do laser, para a zona de saída do gás proveniente do espaço entre os eletrodos, uma corrente suplementar de mistura de gases resfriados eletricamente neutros. Isso permite um aumento da freqüência de sucessão dos pulsos, As particularidades do dispositivo para a realização do processo permitem aumentar o coeficiente de eficácia do laser e simplificar a construção do mesmo.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

15/03/2005

RPI 1784

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

08/09/2004

RPI 1757

Publicação do pedido de patente

#3.1

16/01/2001

RPI 1567

Pedido de patente depositado

#2.1

21/11/2000

RPI 1559

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