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Dado oficial do INPI

PROCESSO DE IMPRESSÃO EM SILK-SCREEN E OFF-SET

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI9900686

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

11/03/1999

Publicação

17/10/2000

Andamento no INPI

  1. Depósito11/03/99
  2. Publicação17/10/00
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 11/03/1999, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 06/07/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

A. G. (pessoa física)

SP, BR

Inventores

A. G. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

De acordo com essa ilustração, e para sua concepção o processo de impressão em silk-screen e off-set se utiliza de fotolito com incontáveis círculos milimetricamente distribuídos que aplicado em adesivos, películas e outros materiais transparentes, isola-se a vazão da tinta aplicada no material. Desta forma, consegue-se como resultado que o material impresso quando visto de dentro para fora propiciará a visibilidade parcial da paisagem exterior em razão dos incontáveis círculos milimetricamente distribuídos que facultam essa visibilidade e quando visto de fora propicia uma perfeita identificação da imagem impressa que permanecerá fiel ao original.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

06/07/2004

RPI 1748

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

18/11/2003

RPI 1715

Publicação do pedido de patente

#3.1

17/10/2000

RPI 1554

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