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Dado oficial do INPI

PROCESSO E DISPOSITIVO PARA O TRATAMENTO, ESPECIALMENTE LIMPEZA, REMOÇÃO OU RETIRADA POR ABRASÃO DE REVESTIMENTOS, PIXAÇÕES OU OUTRAS POLUIÇÕES SUPERFICIAIS SOBRE COMPONENTES, PEÇAS OU SUPERFÍCIES DE TRABALHO

ExtintaPatente de InvençãoPCT · DE1998003106

Dados do pedido

Número

PI9815299

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

19/10/1998

Publicação

10/10/2000

PCT

DE1998003106

Andamento no INPI

  1. Depósito19/10/98
  2. Publicação10/10/00
  3. Exame
  4. Deferimento14/12/04
  5. Concessão21/06/05
  6. Extinto26/04/16

Patente concedida em 21/06/2005 e depois extinta em 26/04/2016. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 26/04/2016. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

F. S. (pessoa física)

ES

G. P. (pessoa física)

DE

Granulate Pneumatic Gerätebau Gmbh

DE

Inventores

G. P. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

DE

197 47 838.7 · 19/10/1997

Resumo técnico

"PROCESSO E DISPOSITIVO PARA O TRATAMENTO, ESPECIALMENTE LIMPEZA, REMOÇÃO OU RETIRADA POR ABRASÃO DE REVESTIMENTOS, PIXAÇÕES OU OUTRAS POLUIÇÕES SUPERFICIAIS SOBRE COMPONENTES, PEÇAS TRABALHADAS OU SUPERFÍCIES DE TRABALHO" A presente invenção se refere a um processo e a um dispositivo para o tratamento, especialmente a limpeza, retirada ou eliminação por abrasão de revestimentos (1), pixações ou outras poluições superficiais sobre componentes, peças trabalhadas ou superfícies (3). Um meio de jateamento (2) é introduzido por gravidade de um recipiente de suprimento (11) em uma corrente de ar de sustentação (5) que é conduzida no interior de um sistema de condutos flexíveis formado por condutos de admissão e descarga, conduzido por meio de sub-pressão através destes, lançado contra a superfície a ser tratada (3) em uma câmara de jateamento (25) por uma lança de jateamento (22), e dali de tal modo devolvido à corrente de ar de sustentação (5), que o meio de jateamento (2) é conduzido em um circuito. A aceleração dos meios de jateamento é produzida substancialmente pela sub-pressão que se encontra junto a câmara de jateamento (25) e pela da elevação da velocidade de jateamento em um trecho de aceleração (L) por meio da redução do diâmetro do conduto de admissão no trecho de aceleração (L). A linha de admissão submetida a uma sub-pressão (20) é conectada a um tubo de aceleração (21) que se estende em linha reta e forma um trecho de aceleração (L), tubo de aceleração este que é disposto antes da lança de jateamento (22) e apresenta o diâmetro reduzido em relação ao conduto de admissão.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2328 de 18-08-2015 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

26/04/2016

RPI 2364

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 17ª anuidade.

18/08/2015

RPI 2328

Transferência deferida

#25.1

Transferido de: Granulate Pneumatic Gerätebau GmbH

06/09/2011

RPI 2122

Concessão da patente

#16.1

21/06/2005

RPI 1798

Transferência deferida

#25.1

Trasferido de: Gerard Pieper

10/05/2005

RPI 1792

Deferimento

#9.1

14/12/2004

RPI 1771

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

10/10/2000

RPI 1553

Monitoramento de patentes

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