Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1849 de 13/06/2006.
06/12/2011
RPI 2135
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Dado oficial do INPI
PÓ DE COBRE DE ALTA ÁREA SUPERFICIAL E BAIXA DENSIDADE, MISTURAS COM O MESMO E PROCESSO DE ELETRODEPOSIÇÃO PARA FAZÊ-LO
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US1998026943
Dados do pedido
Número
PI9815092Tipo
Patente de Invenção
Depósito
18/12/1998
Publicação
17/10/2000
PCT
US1998026943 Andamento no INPI
- Depósito18/12/98
- Publicação17/10/00
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 06/12/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Electrocopper Products Limited
US
Inventores
N. S. (pessoa física)
US
R. H. (pessoa física)
US
S. K. (pessoa física)
US
W. G. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
09/018,269 · 04/02/1998
Resumo técnico
''PÓ DE COBRE DE ALTA ÁREA SUPERFICIAL E BAIXA DENSIDADE, MISTURAS COM O MESMO E PROCESSO DE ELETRODEPOSIÇÃO PARA FAZÊ-LO''. Esta invenção refere-se a um pó de cobre de alta área superficial e baixa densidade tendo uma densidade aparente na faixa de cerca de 0,20 a cerca de 0,60 grama por centímetro cúbico, e uma área superficial de pelo menos 0,5 metro quadrado por grama. Esta invenção também se refere a um processo de eletrodeposição para fazer o pó de cobre acima eletrodepositando o pó de cobre de uma solução de eletrólito usando uma combinação de parâmetros de processo críticos. Estes parâmetros críticos incluem: uma concentração de íons cobre para a solução de eletrólito na faixa de cerca de 2 a cerca de 7 gramas por litro; uma concentração de íons cloro livres para a solução de eletrólito na faixa de cerca de 8 a cerca de 20 ppm; e um nível de impurezas para a solução de eletrólito não maior que cerca de 1,0 grama por litro; e uma solução de eletrólito que esteja livre de aditivos orgânicos.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente a 4ª,5ª,6ª,7ª e 8ª anuidades
13/06/2006
RPI 1849
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
17/10/2000
RPI 1554
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