Dados do pedido
Número
PI9814468Tipo
Depósito
Publicação
PCT
JP1998005968 Patente concedida em 15/08/2006 e depois extinta em 24/11/2015. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 24/11/2015. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
N. C. (pessoa física)
JP
NIPPON STEEL & SUMITOMO METAL CORPORATION
JP
Inventores
A. I. (pessoa física)
JP
A. N. (pessoa física)
JP
H. S. (pessoa física)
JP
J. K. (pessoa física)
JP
R. W. (pessoa física)
JP
S. T. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
10-76121 · 24/03/1998
JP
9-357656 · 25/12/1997
Resumo técnico
Patente de Invenção: "PROCESSO E APARELHO DE PRODUÇÃO PARA SILÍCIO DE ALTA PUREZA" . É possível produzir Si de alta pureza pelo aquecimento de SiO sólido em uma temperatura de pelo menos 1000°C e menor do que 1730°C, para uma reação de desproporcionalidade na qual o SiO sólido é decomposto para Si líquido ou sólido e SiO~ 2~ sólido, e o Si produzido é separado do SiO~ 2~ e/ou SiO. O SiO sólido pode ser obtido por um processo pelo qual uma mistura de partida de carbono C, silício Si ou ferrosilício, ou uma combinação dos mesmos, com SiO~ 2~ é aquecida para gerar gás contendo SiO gasoso, e o gás contendo SiO é esfriado para produzir SiO sólido.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2286 de 29-10-2014 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
24/11/2015
RPI 2342
#21.6
Referente à 16ª anuidade.
29/10/2014
RPI 2286
#25.4
31/12/2013
RPI 2243
#16.1
15/08/2006
RPI 1858
#9.1
18/04/2006
RPI 1841
#6.1
03/01/2006
RPI 1826
#6.1
14/06/2005
RPI 1797
#1.3
10/10/2000
RPI 1553
Do mesmo titular
Da mesma categoria
Monitoramento de patentes
Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.