Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
18/08/2009
RPI 2015
Dados do pedido
Número
PI9813405Tipo
Depósito
Publicação
PCT
KR1998000414 Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 18/08/2009. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Sansung Electronics Co., Ltd
KR
Inventores
J. J. (pessoa física)
KR
Prioridades unionistas
KR
9766751 · 08/12/1997
Resumo técnico
MÁSCARA DE AMPLITUDE, E APARELHO E PROCESSO PARA FABRICAÇÃO DE FILTRO DE RETÍCULA DE LONGA DURAÇÃO SUANDO A MESMA Uma máscara de amplitude, e um aparelho e processo para fabricação de um filtro de retícula de longa duração que usa a mesma, são providos. Quando uma retícula de longa duração é fabrica seletivamente passando luz de laser a uma fibra ótica, a máscara de amplitude periodicamente passa luz de laser até a fibra ótica. A máscara de amplitude inclui duas máscaras (300) que tem áreas de passagem alternantes periodicamente para a passagem da luz do laser e áreas de não passagem para impedir a passagem da luz do laser, pelo que as duas máscaras (300) são continuamente giradas em direções opostas. O período da área de passagem (308), deste modo, muda continuamente. Nesta máscara, duas máscaras (300) cada uma tendo um período pré determinado são giradas em direções opostas, para assim proverem um período da máscara de amplitude de dependente do ângulo de rotação. Assim, o período da máscara de amplitude pode ser continuamente trocado.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
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