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Dado oficial do INPI

MÁSCARA DE AMPLITUDE, E APARELHO E PROCESSO PARA FABRICAÇÃO DE FILTRO DE RETÍCULA DE LONGA DURAÇÃO USANDO A MESMA

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · KR1998000414

Dados do pedido

Número

PI9813405

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

08/12/1998

Publicação

14/11/2000

PCT

KR1998000414

Andamento no INPI

  1. Depósito08/12/98
  2. Publicação14/11/00
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 18/08/2009. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Sansung Electronics Co., Ltd

KR

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Inventores

J. J. (pessoa física)

KR

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

KR

9766751 · 08/12/1997

Resumo técnico

MÁSCARA DE AMPLITUDE, E APARELHO E PROCESSO PARA FABRICAÇÃO DE FILTRO DE RETÍCULA DE LONGA DURAÇÃO SUANDO A MESMA Uma máscara de amplitude, e um aparelho e processo para fabricação de um filtro de retícula de longa duração que usa a mesma, são providos. Quando uma retícula de longa duração é fabrica seletivamente passando luz de laser a uma fibra ótica, a máscara de amplitude periodicamente passa luz de laser até a fibra ótica. A máscara de amplitude inclui duas máscaras (300) que tem áreas de passagem alternantes periodicamente para a passagem da luz do laser e áreas de não passagem para impedir a passagem da luz do laser, pelo que as duas máscaras (300) são continuamente giradas em direções opostas. O período da área de passagem (308), deste modo, muda continuamente. Nesta máscara, duas máscaras (300) cada uma tendo um período pré determinado são giradas em direções opostas, para assim proverem um período da máscara de amplitude de dependente do ângulo de rotação. Assim, o período da máscara de amplitude pode ser continuamente trocado.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

18/08/2009

RPI 2015

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

10/06/2008

RPI 1953

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

14/11/2000

RPI 1558

Monitoramento de patentes

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