Resumo técnico
"PROCESSOS PARA FORMAÇÃO DE MOLDES E MATERIAIS SENSÍVEIS A RADIAÇÃO" Processo para produção de um molde resistente pre-determinado, sobre, por exemplo, um clichê litográfico, painel de circuito ou máscara, compreende a exposição da reprodução de um revestimento positivo de trabalho sensível a radiação empregando uma radiação apropriada, tal como, radiação de calor direto, radiação ultravioleta, radiação visível, radiação infravermelha ou radiação por feixe de elétrons. O processo é caracterizado pelo uso de um novo material polimérico que é funcionalizado por grupos Q para tornar o mesmo insolúvel em um revelador, porém, tal que, a exposição a radiação torna o mesmo solúvel. Os grupos Q não são grupos diazido como é convencional, porém são grupos que não liberam nitrogênio, quando expostos a radiação e possuem capacidade de ligação de hidrogênio. Exemplos de grupos Q são 2-naftilssulfonilóxi, 2-tienilssulfonilóxi, dansilóxi, p-toluenossulfonilóxi, benzilóxi e n-butilssulfonilóxi.