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Dado oficial do INPI

PROCESSO PARA PRODUZIR UM MOLDE PRÉ-DETERMINADO; PRECURSOR POSITIVO DE TRABALHO; PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE UM PRECURSOR POSITIVO DE TRABALHO; COMPOSIÇÃO POSITIVA DE TRABALHO; SUBSTÂNCIA POLIMÉRICA FUNCIONALIZADA; E PROCESSO PARA FABRICAÇÃO DE UMA SUBSTÂNCIA POLIMÉRICA.

ExtintaPatente de InvençãoPCT · GB1998001953

Dados do pedido

Número

PI9810668

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

02/07/1998

Publicação

04/09/2001

PCT

GB1998001953

Andamento no INPI

  1. Depósito02/07/98
  2. Publicação04/09/01
  3. Exame
  4. Deferimento27/03/07
  5. Concessão25/09/07
  6. Extinto24/11/15

Patente concedida em 25/09/2007 e depois extinta em 24/11/2015. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 24/11/2015. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Kodak Polychrome Graphics Company Ltd.

US

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Inventores

A. M. (pessoa física)

GB

C. M. (pessoa física)

GB

K. R. (pessoa física)

GB

M. S. (pessoa física)

GB

S. B. (pessoa física)

GB

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

GB

9714169.1 · 05/07/1997

GB

9714172.5 · 05/07/1997

GB

9809346.1 · 01/05/1998

Resumo técnico

"PROCESSOS PARA FORMAÇÃO DE MOLDES E MATERIAIS SENSÍVEIS A RADIAÇÃO" Processo para produção de um molde resistente pre-determinado, sobre, por exemplo, um clichê litográfico, painel de circuito ou máscara, compreende a exposição da reprodução de um revestimento positivo de trabalho sensível a radiação empregando uma radiação apropriada, tal como, radiação de calor direto, radiação ultravioleta, radiação visível, radiação infravermelha ou radiação por feixe de elétrons. O processo é caracterizado pelo uso de um novo material polimérico que é funcionalizado por grupos Q para tornar o mesmo insolúvel em um revelador, porém, tal que, a exposição a radiação torna o mesmo solúvel. Os grupos Q não são grupos diazido como é convencional, porém são grupos que não liberam nitrogênio, quando expostos a radiação e possuem capacidade de ligação de hidrogênio. Exemplos de grupos Q são 2-naftilssulfonilóxi, 2-tienilssulfonilóxi, dansilóxi, p-toluenossulfonilóxi, benzilóxi e n-butilssulfonilóxi.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2261 de 06-05-2014 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

24/11/2015

RPI 2342

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 16ª anuidade.

06/05/2014

RPI 2261

Concessão da patente

#16.1

25/09/2007

RPI 1916

Deferimento

#9.1

27/03/2007

RPI 1890

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

12/12/2006

RPI 1875

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

15/08/2006

RPI 1858

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

04/09/2001

RPI 1600

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