Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
22/06/2004
RPI 1746
Dados do pedido
Número
PI9810241Tipo
Depósito
Publicação
PCT
JP1998002487 Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 04/06/1998, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 22/06/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Toto Ltd
JP
Inventores
M. H. (pessoa física)
JP
M. S. (pessoa física)
JP
M. Y. (pessoa física)
JP
M. K. (pessoa física)
JP
M. M. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
10/112787 · 08/04/1998
JP
9/161864 · 04/06/1997
JP
9/161865 · 04/06/1997
Resumo técnico
"AGENTE DE LIMPEZA PARA LIMPAR A SUPERFÍCIE DE UM SUBSTRATO, COMPOSIÇÃO DE SUB-REVESTIMENTO PARA FORMAR UM SUB-REVESTIMENTO SOBRE A SUPERFÍCIE DE UM SUBSTRATO, PROCESSO PARA FORMAR UM REVESTIMENTO FOTOCATALITICAMENTE HIDROFILIFICÁVEL SOBRE A SUPERFÍCIE DE UM SUBSTRATO, CONJUNTO, E, MEMBRO". São descritos um processo para formar um revestimento fotocataliticamente hidrofilificável, envolvendo um processo para tratar a superfície de um substrato antes da formação de um revestimento fotocataliticamente hidrofilificável, que pode formar um bom revestimento fotocataliticamente hidrofilificável, e um agente de limpeza e uma composição de sub-revestimento para o processo. O processo para formar um revestimento fotocataliticamente hidrofilificável compreende as etapas de : limpar a superfície de um substrato com um agente de limpeza predeterminado; revestir um líquido de revestimento fotocataliticamente hidrofilificável sobre o substrato tratado; e curar o revestimento ou, alternativamente, compreende as etapas de : limpar a superfície de um substrato com um agente de limpeza predeterminado; aplicar uma predeterminada composição de sub-revestimento sobre a superfície do substrato para formar um sub-revestimento; revestir um líquido de revestimento fotocataliticamente hidrofilificável sobre o sub-revestimento; e curar o revestimento para formar um revestimento fotocataliticamente hidrofilificável. O agente de limpeza compreende pelo menos um membro selecionado do grupo consistindo de um tensoativo, um abrasivo, um ácido e uma base. A composição de sub-revestimento para o sub-revestimento compreende pelo menos uma partícula de óxido inorgânico ou um silicone ou um precursor de silicone e um solvente.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1.1
22/06/2004
RPI 1746
#11.1
04/11/2003
RPI 1713
#1.3
05/09/2000
RPI 1548
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