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Dado oficial do INPI

PROCESSOS PARA FABRICAR UM CONTATO.

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US1998009190

Dados do pedido

Número

PI9809237

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

05/05/1998

Publicação

20/02/2001

PCT

US1998009190

Andamento no INPI

  1. Depósito05/05/98
  2. Publicação20/02/01
  3. Exame
  4. Deferimento22/02/11
  5. Arquivado
  6. Em vigor

Pedido deferido em 22/02/2011, mas arquivado por falta do pagamento da concessão (art. 38 da LPI). A carta-patente nunca foi emitida.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 14/02/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

E. C. (pessoa física)

JP

Ebara Solar, Inc.

US

Suniva, Inc.

US

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

D. M. (pessoa física)

US

H. D. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

09/072411 · 04/05/1998

US

60/045673 · 06/05/1997

Resumo técnico

"PROCESSOS PARA FABRICAR UMA CÉLULA SOLAR E UM CONTATO, E, CÉLULA SOLAR". Um eletrodo auto-dopante para o silício é formado primariamente a partir de um metal (componente principal ) o qual forma um eutético com o silício. Um dopante tipo-p (para um eletrodo positivo) ou um dopante tipo-n (para um eletrodo negativo) é ligado com o componente principal. A liga do componnete principal e o dopante é aplicada a um substrato de silício. Uma vez aplicada, a liga e o substrato são aquecidos a uma temperatura acima da temperatura eutética do componente principal-silício tal que o componente principal liqüefaz mais do que uma proporção eutética do substrato de silício. A temperatura é então diminuída no sentido da temperatura eutética o que permite ao silício fundido se reconstruir através de epitaxia em fase líquida e ao mesmo tempo em que faz isto incorpora átomos dopantes dentro da treliça recrescida. Uma vez que a temperatura caia abaixo da temperatura eutética do componente principal-silício o silício, que não havia já recrescido em treliça, forma uma liga de fase sólida com o componente principal e retém o dopante não consumido. Essa deixada do componente principal, silício e dopante não consumido é o material final de contato. Alternativamente, um eletrodo auto-dopante pode ser formado a partir de um metal não ligado aplicado a um substrato de silício. O metal e o substrato são aquecidos a uma temperatura acima da temperatura eutética metal-silício em um ambiente gasoso para dentro do qual uma fonte de átomos de dopante vaporizado foi introduzida. Os átomos do dopante no ambiente gasoso são absorvidos pela mistura de metal-silício fundida a um nível muito maior do que eles seriam absorvidos pelas superfícies sólidas do substrato de silício. A temperatura é então diminuída para abaixo da temperatura eutética do metal-silício. Durante essa diminuição da temperatura, a camada recrescida de silício dopada e a liga metal-silício do material final de contato são criados no mesmo processo como descrito acima.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 38 §2° da LPI

#11.4

14/02/2012

RPI 2145

Deferimento

#9.1

22/02/2011

RPI 2094

Transferência deferida

#25.1

Transferido de: Ebara Corporation

19/10/2010

RPI 2076

Transferência deferida

#25.1

Transferido de: Ebara Solar, Inc.

27/10/2009

RPI 2025

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

19/05/2009

RPI 2002

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

20/02/2001

RPI 1572

Monitoramento de patentes

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