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Dado oficial do INPI

PROCESSO PARA DECOMPOSIÇÃO DE HIDROPERÓXIDO DE CICLOALQUILA

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · NL1998000134

Dados do pedido

Número

PI9808852

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

06/03/1998

Publicação

23/07/2002

PCT

NL1998000134

Andamento no INPI

  1. Depósito06/03/98
  2. Publicação23/07/02
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 06/03/1998, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 11/02/2003. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

DSM N.V.

NL

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Inventores

H. B. (pessoa física)

NL

U. K. (pessoa física)

NL

Dados técnicos

Prioridades unionistas

BE

09700217 · 12/03/1997

Resumo técnico

PROCESSO PARA DECOMPOSIÇÃO DE HIDRO-PERÓXIDO DE CICLOALQUILA. Processo para decompor uma mistura contendo hidroperóxido de cicloalquila, sendo que essa mistura compreende uma fase orgânica e uma fase aquosa, em que, durante a decomposição, pelo menos um composto apresentando os seguintes parâmetros está presente: A > - 0,5 e B > -1,0 (1) A e B sendo dependentes de T~ b~, , n~ d~, ~ r~, ~ d~, ~ p~, ~ h~, , e E~ T(30)~, onde T ~ b~ é o ponto de ebulição normal ( C), é a densidade medida a 25 (kg/m^ 3^), n~ d~ é o índice de refração (-), ~ r~ é a constante dielétrica relativa (-), ~ d~ é o parâmetro de solubilidade de Hansen para uma dispersão (MPa^ 1/2^), ~ h~ é o parâmetro de solubilidade de Hansen para polaridade (MPa ^ 1/2^), é o) parâmetro de solubilidade de Hansen para pontes de hidrogênio (MPa ^1/2^) ,é o parâmetro de solubilidade de Scatchard - Hildebrant (Mpa^ 1/2^), é o momento de dipolo (Debey) e E~ T(30)~ é a propriedade de doador/receptor de Lewis (kcal/mol).

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

11/02/2003

RPI 1675

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

23/07/2002

RPI 1646

Monitoramento de patentes

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