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Dado oficial do INPI

PROCESSO DE TRATAMENTO DE UM SUBSTRATO, COMPOSIÇÃO FLUOROQUÍMICA, USO DA MESMA, SUBSTRATO, MONÔMERO, E, COMPOSIÇÃO DE MONÔMERO

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US1998009701

Dados do pedido

Número

PI9808776

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

14/05/1998

Publicação

05/09/2000

PCT

US1998009701

Andamento no INPI

  1. Depósito14/05/98
  2. Publicação05/09/00
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 14/05/1998, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 22/06/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Minnesota Mining And Manufacturing Company

US

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Inventores

K. A. (pessoa física)

BE

P. E. (pessoa física)

BE

Dados técnicos

Prioridades unionistas

EP

97201390.8 · 14/05/1997

Resumo técnico

"PROCESSO DE TRATAMENTO DE UM SUBSTRATO, COMPOSIÇÃO FLUOROQUÍMICA, USO DA MESMA, SUBSTRATO, MONÔMERO, E, COMPOSIÇÃO DE MONÔMERO". A presente invenção fornece uma composição fluoroquímica compreendendo um polímero derivado a partir da polimerização de monômero correspondendo à fórmula geral (I) em que R~ f~ é selecionado a partir do grupo que consiste de grupos alifáticos perfluorados ou parcialmente fluorados; L¹ e L², cada qual independentemente, representam um grupo de ligação divalente orgânico e podem ser o mesmo ou diferentes; L³ representa um grupo de ligação orgânico com uma valência de n + 1; t é 0 ou 1; n é um inteiro de 2 a 20. A¹ e A², cada qual independentemente, representa um resíduo divalente obtido pela remoção de dois grupos -NCO a partir de um diisocianato correspondente e podem ser o mesmo ou diferentes; X¹ e X² são, cada qual independentemente, selecionados a partir do grupo que consiste de O, NH e S; B¹ representa um resíduo hidrofílico obtido pela remoção dos grupos HX¹ e HX² a partir de um composto HX¹-B¹-H²X que compreende um grupo poli(oxialquileno); G representa um grupo polimerizável de radical livre; s é 0 ou 1, com a condição de que quando s é 0, L² representa um segmento hidrofílico compreendendo um grupo poli (oxialquileno) ou o referido polímero é derivado a partir de uma copolimerização de um monômero de acordo com a fórmula (I) e de um monômero contendo um grupo poli(oxialquileno). Substratos tratados com a composição fluoroquímica apresentam boas propriedades de liberação de mancha, em particular para manchas oleosas e manchas à base de água, tais que chá e café.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

22/06/2004

RPI 1746

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

04/11/2003

RPI 1713

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

05/09/2000

RPI 1548

Monitoramento de patentes

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