Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
22/06/2004
RPI 1746
Dados do pedido
Número
PI9808774Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US1998009872 Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 14/05/1998, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 22/06/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Minnesota Mining And Manufacturing Company
US
Inventores
F. A. (pessoa física)
BE
K. A. (pessoa física)
BE
P. E. (pessoa física)
BE
Classificação IPC
Prioridades unionistas
EP
97201388.2 · 14/05/1997
Resumo técnico
"PROCESSO PARA PREPARAR UMA COMPOSIÇÃO FLUOROQUÍMICA, COMPOSIÇÃO FLUOROQUÍMICA, USO DA MESMA, PROCESSO DE TRATAMENTO DE UM SUBSTRATO, E, SUBSTRATO"A presente invenção fornece um processo para preparar uma composição fluoroquímica compreendendo poliuretano por reação de : (A) oligômero fluoroquímico de fórmula (I): M^ f^ ~ m~M~ n~-Q^ 1^-T^ 1^ em que: M^ f^ ~ m~M~ n~ representa um oligômero fluoroquímico compreendendo m unidades derivadas a partir de monômero fluorado e n unidades derivadas a partir de monômero isento de flúor, e em que os monômeros fluorados e monômeros isentos de flúor podem ser o mesmo ou diferentes; m representa um valor de 2 a 40 ; n representa um valor de 0 a 20; T^ 1^ é -OH ou -NH~ 2~; Q^ 1^ e T^ 1^ representam conjuntamente um resíduo orgânico obtido por remoção de um átomo de hidrogênio a partir de um agente de transferência de cadeia que é funcionalizado com T^ 1^; e (B) composto difuncional capaz de reagir com um isocianato e compreendendo um grupo poli(oxialquileno) tendo 18 a 280 porções oxialquileno com (C) diisocianato ou triisocianato. Substratos, tratados com a composição fluoroquímica preparada de acordo com o processo acima descrito, possuem boas propriedades de liberação de mancha, em particular para manchas oleosas e manchas à base de água, tais que vinho, chá e café.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1.1
22/06/2004
RPI 1746
#11.1
04/11/2003
RPI 1713
#1.3
05/09/2000
RPI 1548
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