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Dado oficial do INPI

DISPOSITIVO PARA REALIZAÇÃO DE PROCESSOS DE SEPARAÇÃO ELETROLÍTICOS, CONTÍNUOS

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · EP1998002117

Dados do pedido

Número

PI9808683

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

11/04/1998

Publicação

11/07/2000

PCT

EP1998002117

Andamento no INPI

  1. Depósito11/04/98
  2. Publicação11/07/00
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 06/12/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

A. M. (pessoa física)

AT

H. M. (pessoa física)

DE

R. S. (pessoa física)

DE

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Inventores

H. M. (pessoa física)

DE

R. S. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

DE

19716369.6 · 18/04/1997

Resumo técnico

DISPOSITIVO PARA REALIZAÇÃO DE PROCESSOS DE SEPARAÇÃO ELETROLÍTICOS, CONTÍNUOS Um dispositivo (1) para realização de processos de separação eletrolíticos, contínuos, abrange um cilindro de corrente (3) catódico, cuja largura útil total está formada de modo eletricamente condutor no lado superior. Concentricamente ao e à distância do cilindro de corrente (3) catódico está disposto um anódio A. O espaço distanciador (6), que se encontra entre o cilindro de corrente (3) e o anódio A, é atravessado por uma corrente de eletrólito. Ao cilindro de corrente (3) estão associadas fitas de blindagem (9, 9'), que blindam eletricamente as áreas marginais do cilindro de corrente (3) entre a superfície catódica do cilindro de corrente (3) e o anódio A e, desse modo, protegendo contra um revestimento eletrolítico. Entre as fitas de blindagem (9, 9') encontra-se a área útil N do cilindro de corrente (3), eficaz para a realização dos processos de separação eletrolíticos. O lado das fitas de blindagem (9, 9'), respectivamente voltado para área útil N, abrange um rebaixo (25'), pelo qual a espessura de camada de uma fita metálica a ser produzida ou revestida unilateralmetne é diminuído na margem, até a borda da fita, para zero, de modo que também não se dá qualquer revestimento do cilindro de corrente fora da área útil N. O dispositivo (1) é apropriado tanto para a produção eletrolítica de fitas metálicas como também para o revestimento eletrolítico unilateral de fitas metálicas.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1908 de 31/07/2007.

06/12/2011

RPI 2135

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 7ª,8ª e 9ª anuidades.

31/07/2007

RPI 1908

Transferência deferida

#25.1

Transferido de: Roland Schnettler; Hans Josef May

26/02/2002

RPI 1625

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

11/07/2000

RPI 1540

Monitoramento de patentes

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