Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
07/11/2006
RPI 1870
Dados do pedido
Número
PI9808455Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US1998005876 Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 07/11/2006. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
S. C. (pessoa física)
US
Inventores
N. R. (pessoa física)
US
N. M. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
08/944.732 · 06/10/1997
US
60/042.488 · 02/04/1997
Resumo técnico
"PRODUTOS DE POLIOLEFINA E ADITIVOS DE PROCESSO PARA OS MESMOS TENDO TRANSFERÊNCIA REDUZIDA A SUBSTRATOS" . Trata-se de um aditivo de processo para filmes e espumas de poliolefina produz produtos tendo reduzida oleosidade e reduzida transfrência semelhante a gordura como comparado a monoestearato de glicerol (GMS). O aditivo de processo compreende uma álcool amida N-alifática de ácido graxo da fórmula genérica R-CON(R')R". R é um radical hidrocarboneto graxo tendo de cerca de 8 a 30 carbonos. R' tipicamente é hidrogênio. R' também pode ser um radical alquila de cerca de 1 a 6 carbonos ou um radical alquil álcool de cerca de 1 a 6 carbonos. R" é um fragmento de alquil álcool de cerca de 1 a 6 carbono. Os fragmentos de alquil álcool podem ser mono;ídricos ou poliídricos. Mono alcanol amidas gorduras secundárias onde R' é hidrogênio são particularmente úteis, especialmente estearamida mono etanol amina (MEA). Os benefícios da invenção podem ser obtidos e aperfeiçoados em alguns exemplos através de mistura de álcool amida N-alifática de ácido graxo com um éster de um ácido graxo de cadeia longa com um álcool poliídrico, incluindo GMS. m Exemplos de álcool amidas N-alifáticas de ácido graxo incluem cocamida MEA, lauramida mono isopropil amina (MIPA), oleamida MIPA, e estearamida-2, 3-propanodiol.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.2
07/11/2006
RPI 1870
#6.1
14/03/2006
RPI 1836
#1.3
23/05/2000
RPI 1533
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