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Dado oficial do INPI

PROCESSO E DISPOSITIVO PARA PREPARAÇÃO DE GÁS DE REDUÇÃO PARA REDUÇÃO DE MINÉRIOS

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · AT1998000064

Dados do pedido

Número

PI9808244

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

11/03/1998

Publicação

16/05/2000

PCT

AT1998000064

Andamento no INPI

  1. Depósito11/03/98
  2. Publicação16/05/00
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 30/12/2003. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Voest-Alpine Industrieanlagenbau GMBH

AT

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Inventores

D. R. (pessoa física)

AT

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

AT

A 424/97 · 12/03/1997

Resumo técnico

Patente de Invenção: "PROCESSO E DISPOSITIVO PARA PREPARAÇÃO DE GÁS DE REDUÇÃO PARA REDUÇÃO DE MINÉRIOS" . A tarefa da invenção é criar um processo, que a uma determinada qualidade de minério otimiza o processo de redução. O gás de redução (7) é analisado por meio do sensor de gás (1) e dividido em duas correntes parciais. A corrente de massa da corrente parcial, que é oxidada, é regulada por meio da válvula de regulagem (3) e chaga então ao queimador (4), onde é feita a oxidação. A outra corrente parcial do gás de redução (7) é regulada por meio da válvula de regulagem (2) de acordo com a quantidade de gás necessária na cuba e, depois, é levada à temperatura necessária no trocador de calor (11), unificada com a corrente parcial oxidada do gás de redução. Por meio do sensor de gás (13) são determinados os componentes do gás e a alimentação de gás (14) é determinada, eventualmente através de fórmulas matemáticas. Com a invenção é possível, a uma determinada qualidade de minério, guiar o processo de redução em direção ao seu ótimo estequiométrico. Uma vantagem também consiste no fato de que o gás de redução é aquecível para uma temperatura desejada com fração de oxidante muito baixa, de modo que a análise de gás pode ser ajustada em amplos limites.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

30/12/2003

RPI 1721

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

15/07/2003

RPI 1697

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

16/05/2000

RPI 1532

Monitoramento de patentes

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