Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
15/06/2004
RPI 1745
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Dado oficial do INPI
Revelador para materiais de registro sensíveis à radiação irradiados.
ArquivadaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI9805338Tipo
Patente de Invenção
Depósito
14/12/1998
Publicação
03/11/1999
Andamento no INPI
- Depósito14/12/98
- Publicação03/11/99
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 14/12/1998, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 15/06/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
AGFA-Gevaert AG.
DE
Inventores
D. E. (pessoa física)
DE
D. K. (pessoa física)
DE
D. D. (pessoa física)
DE
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
197 55 295.1 · 12/12/1997
Resumo técnico
Patente de Invenção: "REVELADOR PARA MATERIAIS DE REGISTRO SENSÍVEIS À RADIAÇÃO IRRADIADOS" . A invenção refere-se a um revelador para materiais de registro sensíveis à radiação irradiados, em particular para a produção de placas de impressão em offset, que contém água, um composto que seja alcalino em solução aquosa e um copolímero que age como emulsificador e que tem unidades de (I) um composto vinílico hidrofóbico que tenha radicais alquila com até 30 átomos de carbono; e (I) um ácido carboxílico etilenicamente insaturado hidrofílico. Alguns dos grupos carboxila nessas unidades são esterificados com produtos de reação de (A) alcanóis (C~ 1~-C~ 30~), ácidos alcanóicos (C~ 8~-C~ 25~), laquilfenóis (C~ 1~-C~ 12~) ou dialquilaminas (C~ 1~-C~ 20~) com (B) óxidos de alquileno (C~ 2~-C~ 4~) ou tertraidrofurano, a razão molar de (A): (B) estando na faixa de 1:1 a 1:50. Destina-se a revelar materiais de registro com uma camada de trabalho negativo, o revelador contendo, além disso, um solvente orgânico miscível em água e um composto tensoativo. O revelador tem uma baixa viscosidade inicial, que aumenta apenas lentamente com o aumento da contaminação com componentes de camada. Além disso, evita a deposição de componentes de camada na máquina de revelação de placas de impressão.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
28/10/2003
RPI 1712
Publicação do pedido de patente
#3.1
03/11/1999
RPI 1504
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