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Dado oficial do INPI

MÉTODO DE PURIFICAÇÃO DE SILÍCIO EM FORNO DE FUSÃO POR FEIXE DE ELÉTRONS.

IndeferidaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI9804469

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

21/10/1998

Publicação

30/05/2000

Andamento no INPI

  1. Depósito21/10/98
  2. Publicação30/05/00
  3. Exame
  4. Indeferido10/03/15
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido indeferido em 10/03/2015 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 10/03/2015. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Universidade Estadual de Campinas - Unicamp

SP, BR

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Inventores

A. B. (pessoa física)

BR

J. O. (pessoa física)

BR

P. M. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

"MÉTODO DE PURIFICAÇÃO DE SILÍCIO EM FORNO DE FUSÃO POR FEIXES DE ELÉTRONS", compreendendo a utilização de um forno de feixe de elétrons; o material de partida pode estar na forma de pedras, pó ou barras; o tempo de processo e a energia aplicada ao feixe de elétrons dependem da concentração inicial de impurezas na amostra; o presente método compreende que o silício (1) seja colocado em um recipiente de cobre (2) refrigerado à água (3) que pode ter qualquer geometria; o forno de feixe de elétrons contém um canhão de elétrons (4) que gera um feixe de elétrons (5).

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Indeferimento mantido em recurso

#9.2.4

MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.

10/03/2015

RPI 2305

Anulação de publicação (variante)

#15.22

reconhecido obstáculo administrativo e devolvido o prazo de26dias, nos termos do artigo 221 § 2º da LPI e Resolução 116/2004.

10/12/2013

RPI 2240

9.2.4.1

ANULADA A PUBLICAÇÃO DA MANUTENÇÃO DO INDEFERIMENTO POR TER SIDO INDEVIDA.

03/04/2012

RPI 2152

Indeferimento mantido em recurso

#9.2.4

MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.

01/11/2011

RPI 2130

Indeferimento

#9.2

31/05/2011

RPI 2108

Anulação de publicação (variante)

#15.22

Devolução de Prazo Concedida - Reconhecido o obstáculo administrativo e devolvido o prazo de 22 dias, nos termos do artigo 221 parágrafo 2º da LPI e da resolução 116/04.

02/03/2010

RPI 2043

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

21/07/2009

RPI 2011

Anulação de publicação (variante)

#15.22

Reconhecido o obstáculo administrativo e devolvido o prazo de 20 dias, nos termos do artigo 221 parágrafo 2º da LPI e AN n. º 127.

06/02/2008

RPI 1935

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

03/07/2007

RPI 1904

Publicação do pedido de patente

#3.1

30/05/2000

RPI 1534

Monitoramento de patentes

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