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Dado oficial do INPI

Navio redutor de atrito e processo de reduzir a resistência ao atrito superficial.

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI9803750

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

14/08/1998

Publicação

23/11/1999

Andamento no INPI

  1. Depósito14/08/98
  2. Publicação23/11/99
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 14/08/1998, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 15/06/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Ishikawajima-Harima Heavy Industries Co. Ltd.

JP

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Inventores

Y. T. (pessoa física)

JP

Y. Y. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

JP

10-046354 · 13/02/1998

JP

9-351756 · 19/12/1997

Resumo técnico

Patente de Invenção: "NAVIO REDUTOR DE ATRITO E PROCESSO DE REDUZIR A RESISTÊNCIA AO ATRITO SUPERFICIAL" . Processo de reduzir o atrito superficial baseado sobre gerar bolhas pelo insuflar gás para o interior da água a partir de uma posição selecionada de um navio em movimento que são separadas ao longo da direção longitudinal por distâncias específicas.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

15/06/2004

RPI 1745

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

28/10/2003

RPI 1712

Publicação do pedido de patente

#3.1

23/11/1999

RPI 1507

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