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Dado oficial do INPI

PROCESSO PARA PURIFICAR SÍLICA NATRUAL OU SINTÉTICA E APLICAÇÃO AO DEPÓSITO DE SÍLICA NATURAL OU SINTÉTICA PURIFICADA SOBRE UMA PRÉ-FORMA DE FIBRA ÓTICA.

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI9803384

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

04/09/1998

Publicação

21/03/2000

Andamento no INPI

  1. Depósito04/09/98
  2. Publicação21/03/00
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 04/09/1998, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 15/06/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

A. D. (pessoa física)

FR

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Inventores

A. D. (pessoa física)

FR

B. G. (pessoa física)

FR

J. C. (pessoa física)

FR

P. R. (pessoa física)

FR

Y. L. (pessoa física)

FR

Dados técnicos

Prioridades unionistas

FR

9810464 · 17/08/1998

Resumo técnico

Patente de Invenção: "PROCESSO PARA PURIFICAR SÍLICA NATURAL OU SINTÉTICA E APLICAÇÃO AO DEPÓSITO DE SÍLICA NATURAL OU SINTÉTICA PURIFICADA SOBRE UMA PRÉ-FORMA DE FIBRA ÓTICA" .O deposito de sílica natural ou sintética compreende uma pré-forma (1), colocada em rotação (7) diante de um maçarico com plasma (3) que se desloca em um movimento de vaivém sensivelmente de modo paralelo a uma direção longitudinal (L) da pré-forma (1), um conduto de alimentação (9) para alimentar o plasma com grãos de sílica natural ou sintética (110, caracterizado pelo fato de o mesmo conduto de alimentação (9) alimentar o plasma com um composto fluorado ou clorado, de preferência fluorado, misturado a um gás portador (15). Sódio ou lítio contidos em grãos de sílica natural ou sintética reagem com o flúor ou com o cloro do composto fluorado ou clorado, o que permite aumentar, com menor custo, a quantidade ótica das fibras recarregadas pela sílica natural ou sintética.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

15/06/2004

RPI 1745

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

28/10/2003

RPI 1712

Publicação do pedido de patente

#3.1

21/03/2000

RPI 1524

Monitoramento de patentes

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