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Dado oficial do INPI

Poli (Amino Ácido) reticulado e processo para sua preparação

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI9801700

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

26/05/1998

Publicação

14/12/1999

Andamento no INPI

  1. Depósito26/05/98
  2. Publicação14/12/99
  3. Exame
  4. Deferimento21/02/06
  5. Concessão06/06/06
  6. Extinto14/02/12

Patente concedida em 06/06/2006 e depois extinta em 14/02/2012. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 14/02/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Dow AgroSciences LLC

US

Rohm and Haas Company

US

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Inventores

C. C. (pessoa física)

US

G. S. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

60/047916 · 29/05/1997

Resumo técnico

"POLI(AMINO ÁCIDO) RETICULADO E PROCESSO PARA SUA PREPARAÇÃO". São divulgados poli(amino ácidos) reticulados úteis como polímeros superabsoventes e um processo melhorado para a preparação desses poli(amino ácidos). A utilização de agentes de reticulação de poliazidirina e poliepóxido permite uma produção dos polímeros superabsorventes que está isenta das etapas especiais de manuseio necessárias para processar os materiais hidrogel quando usados os processos de preparação convencionais.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Em virtude do despacho 24.3 publicado na RPI 2120 de 23/08/2011 e considerando a manifestação tempestiva mas insuficiente referente à publicação supra.

14/02/2012

RPI 2145

24.3

referente á 12ª e 13ª anuidades.

23/08/2011

RPI 2120

Transferência deferida

#25.1

Transferido de: Rohm and Haas Company

26/12/2006

RPI 1877

Concessão da patente

#16.1

06/06/2006

RPI 1848

Deferimento

#9.1

21/02/2006

RPI 1833

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

04/10/2005

RPI 1813

Publicação do pedido de patente

#3.1

14/12/1999

RPI 1510

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