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Dado oficial do INPI

"PLACA DE LITO-IMPRESSÃO, PROCESSO PARA A PRODUÇÃO DA MESMA, PLACA ORIGINAL, DE LITO-IMPRESSÃO, SENSÍVEL AO CALOR, PROCESSO PARA PRODUZIR A PLACA DE LITO-IMPRESSÃO, E, MATERIAL DE LITO-IMPRESSÃO, SENSÍVEL AO CALOR".

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · JP1997004686

Dados do pedido

Número

PI9714845

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

18/12/1997

Publicação

17/10/2000

PCT

JP1997004686

Andamento no INPI

  1. Depósito18/12/97
  2. Publicação17/10/00
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 27/05/2014. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

A. K. (pessoa física)

JP

A. K. (pessoa física)

JP

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Inventores

K. T. (pessoa física)

JP

M. T. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

JP

08-347984 · 26/12/1996

Resumo técnico

"PLACA DE LITO-IMPRESSÃO, PROCESSO PARA A PRODUÇÃO DA MESMA, PLACA ORIGINAL, DE LITO-IMPRESSÃO, SENSÍVEL AO CALOR, PROCESSO PARA PRODUZIR A PLACA DE LITO-IMPRESSÃO, E, MATERIAL DE LITO-IMPRESSÃO, SENSÍVEL AO CALOR" Uma placa de lito-impressão compreendendo um suporte e uma camada de gravação que compreende um íon de metal polivalente, e um polímero aglutinante hidrófilo, tendo uma porção de base de Lewis contendo nitrogênio, oxigênio ou enxofre, e que tem uma área de imagem oleófila e uma área não imagem hidrófila, que são impressas em um modo térmico, em que o polímero aglutinante hidrófilo na área não imagem hidrófila é reticulado tri-dimensionalmente pela interaçào entre o íon de metal polivalente e a porção de base de Lewis.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 1830 de 31-01-2006 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

27/05/2014

RPI 2264

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

referente á 7ª e 8ª anuidades.

31/01/2006

RPI 1830

Alteração de nome deferida

#25.4

Alterado o nome de Asahi Kasey Kogyo Kabushiki Kaisha

31/07/2001

RPI 1595

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

17/10/2000

RPI 1554

Monitoramento de patentes

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