Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1836 de 14/03/2006.
06/12/2011
RPI 2135
Dados do pedido
Número
PI9714626Tipo
Depósito
Publicação
PCT
KR1997000034 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 06/12/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Daewoo Electronics CO., LTD.
KR
Inventores
Y. M. (pessoa física)
KR
Y. C. (pessoa física)
KR
Classificação IPC
Resumo técnico
''MATRIZ DE ESPELHOS ATUADA DE FILME FINO EM UM SISTEMA ÓPTICO DE PROJEÇÃO E PROCESSO PARA FABRICAR A MESMA''. A AMA de filme fino tem um substrato, um atuador, uma linha comum e um elemento refletor (180). O substrato tem uma fiação elétrica e um terminal de conexão, e o atuador tem uma camada suporte (130), um eletrodo de fundo (135) e um eletrodo de topo (145), e uma camada ativa (140). A linha comum (150) é formada sobre uma porção do atuador e é conectada ao eletrodo de topo (145). A fiação elétrica e o terminal de conexão podem não ser danificados uma vez que o atuador é formado sobre uma porção de substrato adjacente à porção onde fiação elétrica e o terminal de conexão são formados. A queda de voltagem de um segundo sinal pode ser minimizada, uma vez que a linha comum (150) é formada de forma espessa sobre uma porção do atuador, de modo que um segundo sinal suficiente é aplicado ao eletrodo de topo (145). A planura do elemento refletor (180) pode ser aprimorada, uma vez que o elemento refletor (180) é formado sobre uma segundo camada de sacrifício.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1836 de 14/03/2006.
06/12/2011
RPI 2135
#8.6
Referente a 7ª e 8ª anuidades.
14/03/2006
RPI 1836
#1.3
28/03/2000
RPI 1525
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