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Dado oficial do INPI

REVESTIMENTOS, PROCESSOS E APARELHO PARA REDUZIR A REFLEXÃO DE SUBSTRATOS ÓPTICOS.

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US1997023231

Dados do pedido

Número

PI9714213

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

12/12/1997

Publicação

29/02/2000

PCT

US1997023231

Andamento no INPI

  1. Depósito12/12/97
  2. Publicação29/02/00
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

Falar com um especialista

Última movimentação publicada pelo INPI: 27/10/2009. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

P. H. (pessoa física)

US

V. M. (pessoa física)

US

Inventores

P. H. (pessoa física)

US

V. M. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

60/037,239 · 27/01/1997

Resumo técnico

Patente de Invenção: "REVESTIMENTOS, PROCESSOS E APARELHO PARA REDUZIR A REFLEXÃO DE SUBSTRATOS ÓPTICOS" . Processo para o revestimento de substratos ópticos com revestimentos anti-reflexão (AR) é descrito. A espessura e a composição do revestimento são determinadas por minimização do produto dos coeficientes de reflexão Fresnel para um revestimento com a sensibilidade dependente angular e comprimento de onda do sistema visual humano para minimizar a refletância percebida para o artigo revestido. Uma câmara compacta é evacuada e varrida com gás quimicamente inerte como argônio ou nitrogênio. Um ou mais precursores moleculares são depositados usando deposição de vapor químico, melhorado com plasma, (PECVD) para formar filmes AR. Os revestimentos de AR de camada única com base em filmes de fluoropolímero de espessura controlada, assim como multicamadas orgânicas, organossilício e/ou inorgânicas são descritos. Também é provido um processo para monitorar oticamente o crescimento do filme, usando diodo emissor de luz polarizada, um filtro óptico polarizante, e um fotodiodo. A retroalimentação do monitor é usada para controlar o fluxo do precursor para produzir camadas únicas e múltiplas camadas com propriedades anti-reflexão prescritas.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho publicado na RPI 1975 de 11/11/2008.

27/10/2009

RPI 2025

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente á 10ª e 11ª anuidades.

11/11/2008

RPI 1975

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

16/09/2008

RPI 1967

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

29/02/2000

RPI 1521

Monitoramento de patentes

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