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Dado oficial do INPI

PROCESSO COM BAIXO TEOR EM ALCATRÃO, BAIXO TEOR EM SEDIMENTOS, PARA PREPARAR UM DERIVADO POLIALQUENILA DE UM COMPOSTO PRODUZIDO ÁCIDO CARXíLICO

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US1997010098

Dados do pedido

Número

PI9714205

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

07/07/1997

Publicação

28/03/2000

PCT

US1997010098

Andamento no INPI

  1. Depósito07/07/97
  2. Publicação28/03/00
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 12/04/2005. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Exxon Chemical Patents Inc

US

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Inventores

J. S. (pessoa física)

GB

R. R. (pessoa física)

GB

R. W. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

785206 · 17/01/1997

Resumo técnico

"PROCESSO COM BAIXO TEOR EM ALCATRÃO, BAIXO TEOR EM SEDIMENTOS, PARA PREPARAR UM DERIVADO POLIALQUENILA DE UM COMPOSTO PRODUZINDO ÁCIDO CARBOXÍLICO". Processo térmico isento de cloro, de baixo teor em sedimento, baixo teor em alcatrão, para preparar derivados polialquenila solúveis em óleo de compostos produzindo ácido monocarboxílico C~ 3~-C~ 10~ monoinsaturado e compostos produzindo ácido dicarboxílico C~ 4~-C~ 10~ monoinsaturados é descrito. O processo envolve reagir o composto produzindo ácido mono- ou dicarboxílico com um poliuretano em uma alta temperatura e sob pressão parcial de gás inerte elevada na presença de uma quantidade inibidora de sedimento de ácido sulfônico substituído por hidrocarbila. Os derivados de polialquenila são utilizáveis por si como aditivos em óleos lubrificantes, fluidos funcionais, e combustíveis e são também utilizáveis como intermediários na preparação de outros produtos (por exemplo succinimidas) utilizáveis como aditivos em óleos lubrificantes, fluidos funcionais, e combustíveis.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

12/04/2005

RPI 1788

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

26/10/2004

RPI 1764

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

28/03/2000

RPI 1525

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