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Dado oficial do INPI

COMPOSIÇÃO AQUOSA E PROCESSO PARA LIMPEZA DE SUPERFÍCIES DURAS COMPREENDENDO UMA MISTURA TENSOATIVA.

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · EP1997007152

Dados do pedido

Número

PI9713967

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

15/12/1997

Publicação

11/04/2000

PCT

EP1997007152

Andamento no INPI

  1. Depósito15/12/97
  2. Publicação11/04/00
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 31/01/2006. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Unilever N.V.

NL

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Inventores

M. L. (pessoa física)

GB

Y. N. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

GB

9626610.1 · 20/12/1996

Resumo técnico

"COMPOSIÇÃO AQUOSA E PROCESSO PARA LIMPEZA DE SUPERFÍCIES DURAS COMPREENDENDO UMA MISTURA TENSOATIVA". A especificação divulga composições melhoradas que além de limpar a superfície acredita-se que depositem na mesma uma camada de tensoativo catiônico qua auxilia a liberação de sujeira subseqüentemente depositada sobre a referida superfície. Estas compreendem uma mistura tensoativa, que em si compreende: a) plo menos 65% em peso do total de tensoativo de tensoativo não iônico; b) menos do que 1% em peso do total de tensoativo de tensoativo aniônico; c) 0,1 a 35 % em peso do total de tensoativo de um tensoativo catiônico, que é um composto quaternário de amônio monoalquílico graxo, em que as cadeias alquílicas compreendem pelo menos 10% de grupos alquila C18-C26; em que a referida composição compreende adicionalmente, pelo menos 0,5 % em peso de uma amina orgânica tendo um pKa de pelo menos 8,0.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

31/01/2006

RPI 1830

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

02/08/2005

RPI 1804

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

11/04/2000

RPI 1527

Monitoramento de patentes

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