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Dado oficial do INPI

PROCESSO, COMPOSIÇÃO ABSORVENTE DE LUZ E COMPOSTOS DIÁCIDOS.

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US1997022255

Dados do pedido

Número

PI9713145

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

25/11/1997

Publicação

08/02/2000

PCT

US1997022255

Andamento no INPI

  1. Depósito25/11/97
  2. Publicação08/02/00
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 25/11/1997, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 08/06/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Eastman Chemical Company

US

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Inventores

B. M. (pessoa física)

US

G. R. (pessoa física)

US

J. S. (pessoa física)

US

J. F. (pessoa física)

US

M. W. (pessoa física)

US

S. H. (pessoa física)

US

W. P. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

08/976206 · 21/11/1997

US

60/031478 · 27/11/1996

Resumo técnico

"PROCESSO, COMPOSIÇÃO ABSORVENTE DE LUZ E COMPOSTOS, DIÁCIDOS". A presente invenção relata um processo que compreende reagir em um solvente, na presença de uma base: a) pelo menos um monômero diácido compreendendo cerca de 1 a 100% em mol de pelo menos 1 monômero absorvente de luz tendo um máximo de absorção de luz entre cerca de 300 nm de 1.200 nm e de 99 a 0% em mol de um mon de um monômero não absorvente de luz que não absorve luz significante em comprimentos de onda acima de 300nm ou tem um máximo de absorção de luz abaixo de 300 nm, com b) um composto orgânico da Fórmula (II): X-B-X~ 1~em que B é um radical orgânico bivalente, para formar uma composição polimérica absorvente de luz tendo a Fórmula (I) em que B é como definido acima; n- é pelo menos 2 e A compreenden o resíduo de um monômero de ácido, compreendendo cerca de 1a 100% em mol de pelo menos um monômero, absorvente de luz tendo um máximo de absorção de luz entre cerca de 300 nm e cerca de 1000 nm e que a porção remasnescente de A compreende o resíduo de um monômero não absorvente de luz que não absorve luz significante em comprimentos de onda acima de 300 nm ou tem uma absorção de luz máxima abaixo de 300 nm.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

08/06/2004

RPI 1744

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

21/10/2003

RPI 1711

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

08/02/2000

RPI 1518

Monitoramento de patentes

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