Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
08/06/2004
RPI 1744
Dados do pedido
Número
PI9713145Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US1997022255 Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 25/11/1997, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 08/06/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Eastman Chemical Company
US
Inventores
B. M. (pessoa física)
US
G. R. (pessoa física)
US
J. S. (pessoa física)
US
J. F. (pessoa física)
US
M. W. (pessoa física)
US
S. H. (pessoa física)
US
W. P. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
08/976206 · 21/11/1997
US
60/031478 · 27/11/1996
Resumo técnico
"PROCESSO, COMPOSIÇÃO ABSORVENTE DE LUZ E COMPOSTOS, DIÁCIDOS". A presente invenção relata um processo que compreende reagir em um solvente, na presença de uma base: a) pelo menos um monômero diácido compreendendo cerca de 1 a 100% em mol de pelo menos 1 monômero absorvente de luz tendo um máximo de absorção de luz entre cerca de 300 nm de 1.200 nm e de 99 a 0% em mol de um mon de um monômero não absorvente de luz que não absorve luz significante em comprimentos de onda acima de 300nm ou tem um máximo de absorção de luz abaixo de 300 nm, com b) um composto orgânico da Fórmula (II): X-B-X~ 1~em que B é um radical orgânico bivalente, para formar uma composição polimérica absorvente de luz tendo a Fórmula (I) em que B é como definido acima; n- é pelo menos 2 e A compreenden o resíduo de um monômero de ácido, compreendendo cerca de 1a 100% em mol de pelo menos um monômero, absorvente de luz tendo um máximo de absorção de luz entre cerca de 300 nm e cerca de 1000 nm e que a porção remasnescente de A compreende o resíduo de um monômero não absorvente de luz que não absorve luz significante em comprimentos de onda acima de 300 nm ou tem uma absorção de luz máxima abaixo de 300 nm.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1.1
08/06/2004
RPI 1744
#11.1
21/10/2003
RPI 1711
#1.3
08/02/2000
RPI 1518
Do mesmo titular
Da mesma categoria
Monitoramento de patentes
Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.