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Dado oficial do INPI

DISPERSÃO DE PARTÍCULAS DE UM POLÍMERO DE UM MONÔMERO POLIMERIZÁVEL POR ADIÇÃO, PARTÍCULAS POLIMÉRICAS, E ESPUMA DE POLIURETANO

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US1997008676

Dados do pedido

Número

PI9710972

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

22/05/1997

Publicação

14/03/2000

PCT

US1997008676

Andamento no INPI

  1. Depósito22/05/97
  2. Publicação14/03/00
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 08/06/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

The Dow Chemical Company

US

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Inventores

K. H. (pessoa física)

US

R. S. (pessoa física)

US

W. W. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

08/652,179 · 23/05/1996

Resumo técnico

"DISPERSÃO DE PARTÍCULAS DE UM POLÍMERO DE UM MONÔMERO POLIMERIZÁVEL POR ADIÇÃO, PARTÍCULAS POLIMÉRICAS E ESPUMA DE POLIURETANO". Um polímero poliol é produzido por um processo compreendendo polimerizar por radical livre um componente monômero di-(fenil substituído) por exemplo, éster matacrílico de éter diglicidílico de tetrabromobisfenol A) polimerizável por adição na presença de um poliol, sendo que o monômero tem pelo menos um halogênio aromático e pelo menos um substituinte etilenicamente insaturado aromático. O polímero poliol também pode ser feito copolimerizando o dito monômero com um componente monómerico etilenicamente isaturado adicional tal como estireno e acrilonitrila. Os ditos polímeros polióis foram reagidos com um componente isocianato formando uma espuma de poliuretano retardante de chamas.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

08/06/2004

RPI 1744

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

16/12/2003

RPI 1719

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

14/03/2000

RPI 1523

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