Extinção para fins de restauração (art. 87)
#21.6
Referente à despacho 24.3, RPI 2118 de 09/08/2011.
24/01/2012
RPI 2142
Dados do pedido
Número
PI9710492Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP1997003753 Patente concedida em 29/08/2006 e depois extinta em 24/01/2012. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 24/01/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
B. A. (pessoa física)
DE
Inventores
C. T. (pessoa física)
DE
E. B. (pessoa física)
DE
R. K. (pessoa física)
DE
U. K. (pessoa física)
DE
Prioridades unionistas
DE
196 29 453.3 · 23/07/1996
Resumo técnico
"PROCESSO PARA LIMPEZA POR REDUÇÃO DE TÊXTEIS DE POLIÉSTER TINGIDOS OU ESTAMPADOS, MISTURAS, COMPOSIÇÀO, E, USO DE UMA SOLUÇÃO AQUOSA DE UMA MISTURA". A invenção diz respeito a um processo para a pós-limpeza de têxteis contendo poliéster colorido ou estampado e é caracterizada pelo fato de que uma mistura é adicionada como um agente de pós tratamento à solução de corante ácido ou ao banho de lavagem. dita mistura compreende como componentes: a) pelo menos um composto de fórmula (I) A~ m~[(CR^ 1^R^ 2^)~ m~SO~ 2~M]~ p,q~, em que a designa NR^ 3^~ 3-q~ ou OR^ 4^~ 2-p~, R^ 1^, R^ 2^, R^ 4^designam hidrogênio, alquila C~ 1~-C~ 6~, R^ 3^ designa grupos idênticos ou diferentes selecionados do grupo compreendendo hidrogênio, alquila C~ 1~-C~ 20~, cicloalquila C~ 3~-C~ 8~, opcionalmente substituída por entre um e três grupos de alquila C~ 1~-C~ 4~, M é um equivalente de um íon terroso de amônio, álcali ou alcalino, m é 0 ou 1, p é 1 ou 2, q é 1,2 ou 3, pelo menos um dos grupos R^ 1^, R^ 2^, R^ 4^ sendo uma alquila C~ 1~-C~ 6~ quando a representa OR^ 4^~ 2-p~, e, quando m é igual a 0: p, q assumem o valor 2, e o composto de fórmula (I) é usado em uma mistura com uma quantidade de substância de ligação ácida que é suficiente para aumentar o valor do pH da solução de corante ou banho de lavagem por entre 1 e 3 unidades; b) opcionalmente pelo menos um composto de fórmula (II) A[CR^ 1^R^ 2^)SO~ 3~M]~ p,q~, em que A, R^ 1^, R^ 2^, R^ 3^, R^ 4^, M, p e q têm as mesmas significações gerais como na fórmula (I); e c) opcionalmente outros aditivos.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#21.6
Referente à despacho 24.3, RPI 2118 de 09/08/2011.
24/01/2012
RPI 2142
Referente a 12ª,13ª e 14ª anuidade(s).
09/08/2011
RPI 2118
#16.1
29/08/2006
RPI 1860
#9.1
18/04/2006
RPI 1841
#6.1
03/01/2006
RPI 1826
#1.3
17/08/1999
RPI 1493
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