Dado oficial do INPI

DISPOSITIVO DE ATOMIZAÇÃO AUXILIADO POR GÁS.

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US1997011710

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Dados do pedido

Número

PI9710223

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

08/07/1997

Publicação

18/01/2000

PCT

US1997011710

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Andamento no INPI

Depósito08/07/97
Publicação18/01/00
Arquivado
Deferimento
Concessão
Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 20/04/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Spraychip Systems Corp.

Inventores

A. R. (pessoa física)

J. S. (pessoa física)

P. S. (pessoa física)

Dados técnicos

Classificação IPC

F23D 11/10

Prioridades unionistas

60/021,306 · 08/07/1996

60/021,308 · 08/07/1996

60/021,309 · 08/07/1996

60/021,310 · 08/07/1996

Resumo técnico

Patente de Invenção para "DISPOSITIVO DE ATOMIZAÇÃO AUXILIADO POR GÁS". Dispositivos de atomização auxiliado por gás (40) são providos, que incluem orificios de líquido (64), que liberam líquidos, e orificios de gás (66), que liberam gás, para atomizar o líquido em goticulas. Os dispositivos de atomização (40) são formados por pelo menos uma primeira camada (42) e uma segunda camada (44). Os dispositivos de atomização (40) podem incluir uma rede de suprimento de gás e líquido que suprem gás e líquido aos orificios de gás e líquido (64 e 66), respectivamente.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

20/04/2004

RPI 1737

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

23/09/2003

RPI 1707

Transferência indeferida

#25.2

Indeferido o pedido de transferência de titular em vista do não cumprimento da exigência, publicado na RPI 1606 de 16/10/2001, no prazo legal estabelecido pela LPI - petição nº 006602/RJ de 02/03/1999.

05/02/2002

RPI 1622