Dados do pedido
Número
PI9706974Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP1997000306 Patente concedida em 22/06/2004 e depois extinta em 14/03/2017. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 14/03/2017. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Arco Chemical Technology, L.P.
US
Inventores
S. H. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
08/592,087 · 26/01/1996
Resumo técnico
Patente de Invenção "POLIÓIS DESORDENADOS DE POLI(OXIPROPILENO/OXIETILENO), ÚTEIS NA PREPARAÇÃO DE ESPUMA DE ALTA RESILIÊNCIA FLEXÍVEL COM TENDÊNCIAS REDUZIDAS PARA RETRAÇÃO, E ESPUMA PREPARADA DELES" . As espumas de poliuretano de alta resiliência, apresentando pouca ou nenhuma retração, podem ser preparados de polióis de polioxialquileno catalisados por cianeto metálico duplo, em proporções superiores a 20 por cento em peso do componente poliol total, quando são empregados polióis desordenados de poli (oxipropileno/oxietileno) de baixa insaturação, tendo menos do que 35 por cento em peso de um bloco todo de polioxipropileno, catalisado por catalisadores de cianeto metálico duplo, e um ou mais blocos de polioxipropileno/polioxietileno) desordenados externos, cada um contendo 2 por cento em peso ou mais de partes de oxietileno, e uma isaturação inferior a 0,2 meq/g.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2394 de 22-11-2016 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
14/03/2017
RPI 2410
#21.6
Referente à 20ª anuidade.
22/11/2016
RPI 2394
#16.1
22/06/2004
RPI 1746
#9.1
23/03/2004
RPI 1733
#6.1
28/10/2003
RPI 1712
#6.1
06/05/2003
RPI 1687
#1.3
06/04/1999
RPI 1474
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